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1. (WO2005085349) COMPOSITION DE RESINE POLYESTER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/085349    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/004142
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 03.03.2005
CIB :
C08K 9/04 (2006.01), C08L 67/02 (2006.01), D01F 6/92 (2006.01)
Déposants : TEIJIN LIMITED [JP/JP]; 6-7, Minamihommachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410054 (JP) (Tous Sauf US).
KOHNO, Kazuteru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIDO, Nobuaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIO, Rei [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUMURA, Shunichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOHNO, Kazuteru; (JP).
KIDO, Nobuaki; (JP).
NISHIO, Rei; (JP).
MATSUMURA, Shunichi; (JP)
Mandataire : MIHARA, Hideko; c/o Teijin Intellectual Property Center Limited 1-1, Uchisaiwaicho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-0011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-062107 05.03.2004 JP
2004-198970 06.07.2004 JP
Titre (EN) POLYESTER RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RESINE POLYESTER
(JA) ポリエステル樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)A polyester resin composition comprising a polyester and a phyllosilicate 60 to 100% of which has been modified with organophosphonium ions, wherein the phyllosilicate is contained in an amount of 0.01 to 20 wt.% in terms of inorganic ash content and the terminal OH amount is 0.1 to 45 eq/ton; a process for producing the composition; and a molded object comprising the composition.
(FR)Composition de résine polyester comprenant un polyester et un phyllosilicate dont 60 à 100% ont été modifiés par des ions organo-phosphonium, dans laquelle le phyllosilicate est présent dans une quantité de 0,01 à 20% en poids en terme de teneur en cendres minérales et la quantité finale de OH est de 01, à 45 eq/tonne ; processus de fabrication de la composition et objet moulé comprenant la composition.
(JA)ポリエステルと、有機ホスホニウムイオンにより60~100%修飾された層状珪酸塩とからなる樹脂組成物であって、該層状珪酸塩を無機灰分として0.01~20重量%含み、OH末端基量が0.1から45当量/トンであるポリエステル樹脂組成物、その製造方法、およびそれからなる成形体。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)