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1. (WO2005085142) SUBSTRAT MODIFIE AMELIORE DESTINE A L'ELIMINATION D'OXYANIONS AQUEUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/085142    N° de la demande internationale :    PCT/AU2005/000332
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 09.03.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    23.12.2005    
CIB :
B09C 1/08 (2006.01), C01B 33/38 (2006.01), C01B 33/40 (2006.01), C02F 1/42 (2006.01), C02F 1/58 (2006.01), C02F 1/68 (2006.01), C02F 11/00 (2006.01), E01H 12/00 (2006.01), E01H 15/00 (2006.01)
Déposants : PHOSLOCK PTY LTD [AU/AU]; Unit 2, 62 Secam Street, Mansfield, QLD 4122 (AU) (Tous Sauf US).
FOUAD, Hagseresht [AU/AU]; (AU) (US Seulement)
Inventeurs : FOUAD, Hagseresht; (AU)
Mandataire : AHEARN FOX; Patent & Trade Mark Attorneys, Level 4, T & B Building, 141 Queen Street, Brisbane, QLD 4001 (AU)
Données relatives à la priorité :
2004901229 10.03.2004 AU
200410035210.0 30.03.2004 CN
Titre (EN) IMPROVED MODIFIED SUBSTRATE FOR REMOVING AQUEOUS OXYANIONS
(FR) SUBSTRAT MODIFIE AMELIORE DESTINE A L'ELIMINATION D'OXYANIONS AQUEUX
Abrégé : front page image
(EN)A modified substrate for removing aqueous oxyanions formed by: selecting a substrate from minerals or mineral equivalents having a naturally moderate to high cation exchange capacity; forming a substrate modifier from salts of the Group IIIB and Group IVB elements by dissolving one or more of the salts in water at an elevated temperature; and blending the substrate with the substrate modifier at a high shear rate.
(FR)L'invention concerne un substrat modifié permettant de retirer des oxyanions aqueux formés et consistant: à sélectionner un substrat parmi des minéraux ou des équivalents de minéraux possédant une capacité d'échange cationique naturellement modérée à élevée; à former un modificateur de substrat à partir de sels des groupes des éléments des groupes IIIB et IVB par dissolution d'un ou de plusieurs sels dans l'eau à une température élevée; et à mélanger le substrat avec le modificateur de substrat à une vitesse de cisaillement élevée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)