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1. (WO2005085133) PROCEDE DE FABRICATION DE SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/085133    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/050043
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 06.01.2005
CIB :
C01B 33/027 (2006.01), C01B 33/029 (2006.01), C01B 33/03 (2006.01)
Déposants : DEGUSSA AG [DE/DE]; Bennigsenplatz 1, 40474 Düsseldorf (DE) (Tous Sauf US).
PÖPKEN, Tim [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
SONNENSCHEIN, Raymund [--/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : PÖPKEN, Tim; (DE).
SONNENSCHEIN, Raymund; (DE)
Représentant
commun :
DEGUSSA AG; Intellectual Property Management, Patents + Trademarks, Bau 1042 - PB 15, 45764 Marl (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2004 010 055.1 02.03.2004 DE
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING SILICON
(FR) PROCEDE DE FABRICATION DE SILICIUM
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a process for producing silicon by thermal decomposition of a gaseous mixture comprising monosilane, monochlorosilane and, if desired, further chlorosilanes, e.g. dichlorosilane.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication de silicium par décomposition thermique d'un mélange gazeux comprenant le monosilane, le monochlorosilane et, si possible, d'autres chlorosilanes tels que le dichlorosilane.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)