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1. (WO2005084378) MODIFICATION DE PROPRIETES DE DISPOSITIF ET DE MATERIAU PAR UNE INJECTION DE CHARGE ELECTROCHIMIQUE EN L'ABSENCE DE CONTACT AVEC UN ELECTROLYTE SOIT POUR UN ETAT SPATIAL LOCAL OU POUR UN ETAT FINAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/084378    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/007084
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 04.03.2005
CIB :
G02B 6/26 (2006.01), H01M 12/00 (2006.01), H01L 31/00 (2006.01)
Déposants : BOARD OF REGENTS OF UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM [US/US]; 201 W. 7th Street, Austin, TX 78701 (US) (Tous Sauf US).
SUH, Dong-Seok [KR/US]; (KR) (US Seulement).
BAUGHMAN, Ray, Henry [US/US]; (US) (US Seulement).
ZAKHIDOV, Anvar, Abdulahadovic [RU/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SUH, Dong-Seok; (KR).
BAUGHMAN, Ray, Henry; (US).
ZAKHIDOV, Anvar, Abdulahadovic; (US)
Mandataire : GARSSON, Ross, Spencer; Winstead Sechrest & Minick P.C., P.O. Box 50784, Dallas, TX 75201-0784 (US)
Données relatives à la priorité :
60/550,289 05.03.2004 US
Titre (EN) MATERIAL AND DEVICE PROPERTIES MODIFICATION BY ELECTROCHEMICAL CHARGE INJECTION IN THE ABSENCE OF CONTACTING ELECTROLYTE FOR EITHER LOCAL SPATIAL OR FINAL STATES
(FR) MODIFICATION DE PROPRIETES DE DISPOSITIF ET DE MATERIAU PAR UNE INJECTION DE CHARGE ELECTROCHIMIQUE EN L'ABSENCE DE CONTACT AVEC UN ELECTROLYTE SOIT POUR UN ETAT SPATIAL LOCAL OU POUR UN ETAT FINAL
Abrégé : front page image
(EN)In some embodiments, the present invention is directed to processes for the combination of injecting charge in a material electrochemically via non-faradaic (double-layer) charging, and retaining this charge and associated desirable properties changes when the electrolyte is removed. The present invention is also directed to compositions and applications using material property changes that are induced electrochemically by double-layer charging and retained during subsequent electrolyte removal. In some embodiments, the present invention provides reversible processes for electrochemically injecting charge into material that is not in direct contact with an electrolyte. Additionally, in some embodiments, the present invention is directed to devices and other material applications that use properties changes resulting from reversible electrochemical charge injection in the absence of an electrolyte.
(FR)Dans certains modes de réalisation, l'invention concerne des procédés pour combiner l'injection électrochimique d'une charge dans une matière, par un chargement non faradique (double couche), et la retenue de cette charge ; et des changements de propriétés voulus associés lorsque l'électrolyte est supprimé. L'invention concerne également des compositions et des applications faisant appel à des changements de propriétés de matière électrochimiquement induits par le chargement d'une double couche et sa retenue lors de la suppression subséquente de l'électrolyte. Dans certains modes de réalisation, l'invention concerne des procédés réversibles pour injecter électrochimiquement une charge dans la matière qui n'est pas en contact direct avec l'électrolyte. En outre, dans certains modes de réalisation, l'invention concerne des dispositifs et d'autres applications de matière faisant appel à des changements de propriété résultant de l'injection électrochimique réversible d'une charge en l'absence de l'électrolyte.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)