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1. (WO2005084267) DISPOSITIFS CMUT ET LEURS PROCEDES DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/084267    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/006408
Date de publication : 15.09.2005 Date de dépôt international : 28.02.2005
CIB :
H02N 1/00 (2006.01), H03H 9/24 (2006.01)
Déposants : GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION [US/US]; 505 Tenth Street, NW, Atlanta, GA 30332 (US) (Tous Sauf US).
DEGERTEKIN, F. Levent [TR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DEGERTEKIN, F. Levent; (US)
Mandataire : SCHNEIDER, Ryan A.; Troutman Sanders LLP, 600 Peachtree Street, ATLANTA, GA 30308 (US)
Données relatives à la priorité :
60/548,192 27.02.2004 US
Titre (EN) HARMONIC CMUT DEVICES AND FABRICATION METHODS
(FR) DISPOSITIFS CMUT ET LEURS PROCEDES DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)Harmonic capacitive micromachined ultrasonic transducer ('cMUT') devices and fabrication methods are provided In a preferred embodiment, a harmonic cMUT device (100) generally comprises a membrane (115) having a non-uniform mass distribution A mass load (155, 160) positioned along the membrane (115) can be utilized to alter the mass distribution of the membrane (115) The mass load (155, 160) can be a part of the membrane (115) and formed of the same material or a different material as the membrane (115) The mass load (155, 160) can be positioned to correspond with a vibration mode of the membrane (115), and also to adjust or shift a vibration mode of the membrane (115) The mass load (155, 160) can also be positioned at predetermined locations along the membrane (1 15) to control the harmonic vibrations of the membrane (115) A cMUT (100) can also comprise a cavity (150) defined b the membrane (115), a first electrode (130a-c) proximate the membrane (1 15), and a seocnd electrode (110) proximate a substrate (105) Other embodiments are also claimed and described.
(FR)L'invention concerne des dispositifs transducteurs ultrasoniques micro-usinés capacitifs et harmoniques (cMUT) et leur procédés de fabrication. Dans un mode de réalisation préféré, un dispositif cMUT harmonique comprend généralement une membrane présentant une répartition de masse non homogène. Une charge de masse positionnée le long de la membrane peut être utilisée pour modifier la répartition massique de la membrane. La charge de masse peut être une partie de la membrane et peut être formée du même matériau que la membrane ou d'un matériau différent. La charge de masse peut être positionnée de manière qu'elle corresponde à un mode de vibration de la membrane, et également que le mode de vibration de la membrane soit réglé ou décalé. La charge de masse peut également être positionnée à endroits prédéterminés le long de la membrane, de manière que les vibrations harmoniques de la membrane soient régulées. Un cMUT peut également comporter une cavité définie par la membrane, une première électrode située à proximité de la membrane et une seconde électrode située à proximité d'un substrat. D'autres modes de réalisations sont également revendiqués et décrits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)