WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005083809) FILM MINCE PIÉZOÉLECTRIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DU FILM MINCE PIÉZOÉLECTRIQUE, ÉLÉMENT PIÉZOÉLECTRIQUE, ET TÊTE D’ENREGISTREMENT À JET D’ENCRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/083809    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003435
Date de publication : 09.09.2005 Date de dépôt international : 23.02.2005
CIB :
B41J 2/045 (2006.01), B41J 2/055 (2006.01), B41J 2/14 (2006.01), B41J 2/16 (2006.01), C01G 25/00 (2006.01), C04B 35/491 (2006.01), C30B 29/32 (2006.01), H01L 21/316 (2006.01), H01L 21/8246 (2006.01), H01L 27/105 (2006.01), H01L 41/09 (2006.01), H01L 41/18 (2006.01), H01L 41/187 (2006.01), H01L 41/22 (2013.01), H01L 41/257 (2013.01), H01L 41/318 (2013.01), H01L 41/39 (2013.01), H02N 2/00 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 3-30-2, Shimomaruko, Ohta-ku, Tokyo, 1468501 (JP) (Tous Sauf US).
FUJI CHEMICAL CO.LTD [JP/JP]; 3-2-33, Higashinoda-cho, Miyakojima-ku, Osaka-shi, Osaka, 5340024 (JP) (Tous Sauf US).
KUBOTA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Motokazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ERITATE, Shinji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UCHIDA, Fumio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MAEDA, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Chiemi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KUBOTA, Makoto; (JP).
KOBAYASHI, Motokazu; (JP).
ERITATE, Shinji; (JP).
UCHIDA, Fumio; (JP).
MAEDA, Kenji; (JP).
SHIMIZU, Chiemi; (JP)
Mandataire : OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg., 2-3,, Marunouchi 3-chome,, Chiyoda-ku, Tokyo, 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-055479 27.02.2004 JP
Titre (EN) PIEZOELECTRIC THIN FILM, METHOD OF MANUFACTURING PIEZOELECTRIC THIN FILM, PIEZOELECTRIC ELEMENT, AND INK JET RECORDING HEAD
(FR) FILM MINCE PIÉZOÉLECTRIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DU FILM MINCE PIÉZOÉLECTRIQUE, ÉLÉMENT PIÉZOÉLECTRIQUE, ET TÊTE D’ENREGISTREMENT À JET D’ENCRE
Abrégé : front page image
(EN)There is disclosed a piezoelectric thin film having less non-uniform portion and holding satisfactory piezoelectric characteristics, a method of manufacturing the film, a piezoelectric element using the piezoelectric thin film, and an ink jet system recording head using the piezoelectric element. In the piezoelectric thin film of perovskite crystals formed on a substrate by a sol-gel process and represented by a general formula Pb (1-x) Lax (ZryTi1-y) O3 (where 0 ≤ x < 1, 0.05 ≤ y ≤ 1), a film thickness of the thin film is 1000 nm or more and 4000 nm or less, and a difference between a maximum value and a minimum value of y in an arbitrary portion of the thin film is 0.05 or less.
(FR)Il est décrit un film mince piézoélectrique ayant une partie moins non uniforme et conservant des caractéristiques piézoélectriques satisfaisantes, un procédé de fabrication du film, un élément piézoélectrique utilisant le film mince piézoélectrique, et une tête d’enregistrement à jet d’encre utilisant l’élément piézoélectrique. Dans le film mince piézoélectrique constitué de cristaux de pérovskite formés sur un substrat par un procédé sol-gel et représentés par une formule générale Pb (1-x) Lax (ZryTi1-y) O3 (où 0 ≤ x < 1, 0,05 ≤ y ≤ 1), une épaisseur de film du film mince est de 1 000 nm ou plus et de 4 000 nm ou moins, et une différence entre une valeur maximale et une valeur minimale de y dans une partie arbitraire du film mince est de 0,05 ou moins.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)