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1. (WO2005083522) PROCÉDÉ DE FORMATION D’UN SCHÉMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/083522    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/003707
Date de publication : 09.09.2005 Date de dépôt international : 25.02.2005
CIB :
G03F 7/027 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : Fuji Photo Film Co., Ltd. [JP/JP]; 210 Nakanuma, Minami-Ashigara-shi, Kanagawa, 2500193 (JP) (Tous Sauf US).
TAKASHIMA, Masanobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WAKATA, Yuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIKAWA, Hiromi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMOYAMA, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKASHIMA, Masanobu; (JP).
WAKATA, Yuichi; (JP).
ISHIKAWA, Hiromi; (JP).
SHIMOYAMA, Yuji; (JP)
Mandataire : HIROTA, Koichi; HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES, 8th Floor, Miyata Bldg., 1-38-2, Yoyogi, Shibuya-ku, Tokyo, 1510053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-058195 02.03.2004 JP
Titre (EN) PATTERN FORMING PROCESS
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION D’UN SCHÉMA
Abrégé : front page image
(EN)The object of the present invention is to provide pattern forming processes that may form permanent patterns such as a wiring pattern with high fineness and preciseness, and sufficient efficiency due to suppressing the image deformation formed on pattern forming materials. In order to attain the object, a pattern forming process is provided which comprises modulating a laser beam irradiated from a laser source, compensating the modulated laser beam, and exposing a photosensitive layer by the modulated and compensated laser beam, wherein the photosensitive layer is disposed on a substrate to form a pattern forming material, the modulating is performed by a laser modulator which comprises plural imaging portions each capable of receiving the laser beam and outputting the modulated laser beam, and the compensating is performed by transmitting the modulated laser beam through plural microlenses each having a non-spherical surface capable of compensating the aberration due to distortion of the output surface of the imaging portion, and the plural microlenses are arranged to a microlens array.
(FR)L’objet de la présente invention est de proposer des procédés de formation d’un schéma qui peuvent former des schémas permanents tels qu’un schéma de câblage avec une finesse et une précision élevées, et une efficacité suffisante due à la suppression de la déformation d’image formée sur les matériaux de formation d’un schéma. Afin d’atteindre l’objectif, un procédé de formation d’un schéma est proposé, lequel comprend la modulation d’un faisceau laser irradié depuis une source laser, la compensation du faisceau laser modulé, et l’exposition d’une couche photosensible par le faisceau laser modulé et compensé, dans lequel la couche photosensible est disposée sur un substrat pour former un matériau de formation d’un schéma, la modulation est effectuée par un modulateur laser qui comprend plusieurs parties de report d’image chacune capables de recevoir le faisceau laser et d’envoyer le faisceau laser modulé, et la compensation est réalisée en transmettant le faisceau laser modulé à travers plusieurs microlentilles ayant chacune une surface non sphérique capable de compenser l’aberration due à la distorsion de la surface de sortie de la partie de report d’image, et les multiples microlentilles sont disposées sur un réseau de microlentilles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)