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1. (WO2005083513) FORMATION DE MOTIFS COMPOSITES AVEC TRANCHEES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/083513    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/033432
Date de publication : 09.09.2005 Date de dépôt international : 07.10.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard, Santa Clara, CA 95052 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : BORODOVSKY, Yan; (US)
Mandataire : HARRIS, Scott, C.; Fish & Richardson, P.C., 12390 El Camino Real, San Diego, CA 92130 (US)
Données relatives à la priorité :
10/688,337 17.10.2003 US
Titre (EN) COMPOSITE PATTERNING WITH TRENCHES
(FR) FORMATION DE MOTIFS COMPOSITES AVEC TRANCHEES
Abrégé : front page image
(EN)Systems and techniques for printing substrates. In one implementation, a method includes patterning a substrate with a substantially arbitrary arrangement of features by introducing irregularity into an array of repeating lines and spaces between the lines.
(FR)L'invention concerne des systèmes et techniques destinés à l'impression sur des substrats. Dans un mode de réalisation, un procédé comprend la formation de motifs sur un substrat possédant une disposition sensiblement arbitraire des traits caractéristiques grâce à l'introduction d'une irrégularité dans un motif de lignes répétées et d'espaces entre les lignes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)