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1. (WO2005082603) SYSTEME D'INFILTRATION POUR PROCESSUS DE PROTOTYPAGE RAPIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/082603    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/037561
Date de publication : 09.09.2005 Date de dépôt international : 11.11.2004
CIB :
B29C 67/00 (2006.01)
Déposants : ILLINOIS TOOL WORKS INC. [US/US]; 3600 West Lake Avenue, Glenview, IL 60026 (US) (Tous Sauf US).
HACHIKIAN, Zakar, Raffi [TR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HACHIKIAN, Zakar, Raffi; (US)
Mandataire : PILARSKI, John, H.; Illinois Tool Works Inc., 3600 West Lake Avenue, Glenview, IL 60026 (US)
Données relatives à la priorité :
10/778,008 12.02.2004 US
Titre (EN) INFILTRANT SYSTEM FOR RAPID PROTOTYPING PROCESS
(FR) SYSTEME D'INFILTRATION POUR PROCESSUS DE PROTOTYPAGE RAPIDE
Abrégé : front page image
(EN)An infiltrant system for rapid prototyping processes. The infiltrant system generally includes a resin component and a hardener component. The resin component typically includes an epoxy resin, and a diluent. The hardener component typically includes an amine, optionally an amide, and optionally a catalyst. High strength infiltrant systems, flexible infiltrant systems, and a method for infiltrating a part are also described.
(FR)L'invention porte sur un système d'infiltration s'adaptant à des processus de prototypage rapide. Le système d'infiltration comprend généralement un composant de résine et un composant de durcissant. Le composant de résine comprend généralement une résine époxy et un diluant. Le composant du durcissant comprend généralement une amine, éventuellement un amide et éventuellement un catalyseur. L'invention porte également sur des systèmes d'infiltration de haute résistance, sur des systèmes d'infiltration flexibles et sur procédé d'infiltration d'une pièce.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)