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1. (WO2005081910) GENERALISATION DE LA FENETRE DE TRAITEMENT PHOTOGRAPHIQUE ET SON APPLICATION A LA CONCEPTION DE MIRES DE CORRECTION DE PROXIMITE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/081910    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/005456
Date de publication : 09.09.2005 Date de dépôt international : 22.02.2005
CIB :
G06F 17/50 (2006.01)
Déposants : PDF SOLUTIONS, INC. [US/US]; 333 West San Carlos Street, Suite 700, San Jose, CA 95110 (US) (Tous Sauf US).
EISENMANN, Hans [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KAI, Peter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
CIPLICKAS, Dennis [US/US]; (US) (US Seulement).
BURROWS, Jonathan [US/US]; (US) (US Seulement).
ZHANG ZHANG, Yunqiang [SG/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : EISENMANN, Hans; (DE).
KAI, Peter; (DE).
CIPLICKAS, Dennis; (US).
BURROWS, Jonathan; (US).
ZHANG ZHANG, Yunqiang; (US)
Mandataire : KOFFS, Steven, E.; Duane Morris LLP, One Liberty Place, Philadelphia, PA 19103-7396 (US)
Données relatives à la priorité :
60/548,488 26.02.2004 US
Titre (EN) GENERALIZATION OF THE PHOTO PROCESS WINDOW AND ITS APPLICATION TO OPC TEST PATTERN DESIGN
(FR) GENERALISATION DE LA FENETRE DE TRAITEMENT PHOTOGRAPHIQUE ET SON APPLICATION A LA CONCEPTION DE MIRES DE CORRECTION DE PROXIMITE OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A method comprises the steps of: (a) simulating on a processor a fabrication of a plurality of layout patterns by a lithographic process; (b) determining sensitivities of the layout patterns to a plurality of parameters based on the simulation; (c) using the sensitivities to calculate deviations of the patterns across a range of each respective one of the parameters; and (d) selecting ones of the patterns having maximum or near-maximum deviations to be used as test patterns.
(FR)Procédé consistant (a) à simuler sur un processeur la fabrication de plusieurs configurations par un processus lithographique; (b) à déterminer les sensibilités des configurations vis-à-vis de plusieurs paramètres fondés sur la simulation; (c) à exploiter ces sensibilités afin de calculer les écarts des configurations sur une gamme de chacun des paramètres ; et (d) à choisir les configurations dont les écarts sont maximaux ou quasi-maximaux en vue de leur utilisation comme mires.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)