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1. (WO2005081597) PROCEDES POUR FORMER DES TRACES ET DES SYSTEMES DE TRACES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/081597    N° de la demande internationale :    PCT/GB2005/000515
Date de publication : 01.09.2005 Date de dépôt international : 14.02.2005
CIB :
H05K 3/12 (2006.01)
Déposants : XAAR TECHNOLOGY LIMITED [GB/GB]; Science Park, Cambridge, Cambridgeshire CB4 0XR (GB) (Tous Sauf US).
DRURY, Paul, Raymond [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
TEMPLE, Stephen [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : DRURY, Paul, Raymond; (GB).
TEMPLE, Stephen; (GB)
Mandataire : GARRATT, Peter, Douglas; Mathys & Squire, 120 Holborn, London EC1N 2SQ (GB)
Données relatives à la priorité :
0403234.8 13.02.2004 GB
Titre (EN) METHODS OF FORMING TRACKS AND TRACK ARRANGEMENTS
(FR) PROCEDES POUR FORMER DES TRACES ET DES SYSTEMES DE TRACES
Abrégé : front page image
(EN)Printed circuit board or other tracks are formed by the deposition of liquid to form dots on a substrate from nozzles mutually spaced by a distance s. A set of n dot diameters Di = 2s(1/2 + i/n), is used to produce linear tracks at one or more directions with respect to an axis X; each track having a minimum track width TW = s(3n-2)/n; and the minimum spacing of tracks along the axis X being TS = s/n.
(FR)Une carte de circuit imprimé ou d'autres tracés sont formés par dépôt de points de liquide sur un substrat, directement à partir de plusieurs buses espacées les unes par rapport aux autres à une distance 's'. Un ensemble de 'n' diamètres de points Di = 2s(1/2 + i/n) est utilisé pour produire des tracés linéaires dans une ou plusieurs directions par rapport à un axe X, chaque tracé possédant une largeur minimale TW = s(3n-2)/n, l'espacement minimal des tracés le long de l'axe X étant TS = s/n.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)