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1. (WO2005081302) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DANS UN APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE LA FIN DU NETTOYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/081302    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/002394
Date de publication : 01.09.2005 Date de dépôt international : 17.02.2005
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1078481 (JP) (Tous Sauf US).
OZAKI, Shigenori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NOGUCHI, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KABE, Yoshiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISA, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OZAKI, Shigenori; (JP).
NOGUCHI, Hideyuki; (JP).
KABE, Yoshiro; (JP).
ISA, Kazuhiro; (JP).
SASAKI, Masaru; (JP)
Mandataire : TAKAYAMA, Hiroshi; 6th Floor, Shin-Yokohama IC Building, 18-9, Shin-Yokohama 3-chome, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2220033 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-043449 19.02.2004 JP
2004-326316 10.11.2004 JP
2004-334552 18.11.2004 JP
Titre (EN) METHOD FOR CLEANING TREATMENT CHAMBER IN SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD FOR DETECTING ENDPOINT OF CLEANING
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT DANS UN APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE LA FIN DU NETTOYAGE
(JA) 基板処理装置における処理室のクリーニング方法およびクリーニングの終点検出方法
Abrégé : front page image
(EN)A method for cleaning a treatment chamber in a substrate treating apparatus for subjecting a substrate having a tungsten-based coating film to a plasma treatment, which comprises introducing a gas containing O2 into the treatment chamber after the plasma treatment without opening the chamber to the atmosphere, to thereby form the plasma of the gas and clean the treatment chamber.
(FR)Un procédé de nettoyage d’une chambre de traitement dans un appareil de traitement de substrat pour soumettre un substrat ayant une pellicule protectrice à base de tungstène à un traitement plasma, qui comprend l’introduction d’un gaz contenant de l’O2 dans la chambre de traitement après le traitement plasma sans ouverture de la chambre à l’atmosphère, pour de ce fait former le plasma du gaz et nettoyer la chambre de traitement.
(JA) タングステン系膜を含む基板にプラズマ処理を施す基板処理装置における処理室をクリーニングするにあたり、プラズマ処理後、大気開放することなく処理室内にOを含むガスを導入し、このガスのプラズマを形成して処理室をクリーニングする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)