WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005081299) PROCEDE DE PRODUCTION DE COMPOSANT, ET SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/081299    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/001836
Date de publication : 01.09.2005 Date de dépôt international : 22.02.2005
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/28 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
PELLENS, Rudy, Jan, Maria [BE/BE]; (BE) (US Seulement)
Inventeurs : PELLENS, Rudy, Jan, Maria; (BE)
Mandataire : LEEMING, John, Gerard; J.A. Kemp & Co., 14 South Square, Gray's Inn, London WC1R 5JJ (GB)
Données relatives à la priorité :
10/783,034 23.02.2004 US
Titre (EN) DEVICE MANUFACTURING METHOD AND SUBSTRATE COMPRISING RADIATION SENSITIVE MATERIAL
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE COMPOSANT, ET SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A method of producing a T-gate in a single stage exposure process using electromagnetic radiation is disclosed.
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire une grille en T lors d'un processus de sensibilisation à une étape, au moyen d'un rayonnement électromagnétique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)