WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005081070) PROCEDES D'EXPOSITION DE MOTIFS ET D'EMULATION DE MASQUES EN LITHOGRAPHIE OPTIQUE SANS MASQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/081070    N° de la demande internationale :    PCT/SE2005/000269
Date de publication : 01.09.2005 Date de dépôt international : 24.02.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    08.12.2005    
CIB :
G02B 26/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : MICRONIC LASER SYSTEMS AB [SE/SE]; Nytorpsvägen 9, S-183 03 TÄBY (SE) (Tous Sauf US).
SANDSTRÖM, Torbjörn [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
MARTINSSON, Hans [SE/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : SANDSTRÖM, Torbjörn; (SE).
MARTINSSON, Hans; (SE)
Mandataire : NORDKVIST, Johan; Micronic Laser Systems AB, IP department, Nytorpsvägen 9, S-183 03 Täby (SE)
Données relatives à la priorité :
60/547,614 25.02.2004 US
60/552,598 12.03.2004 US
Titre (EN) METHODS FOR EXPOSING PATTERNS AND EMULATING MASKS IN OPTICAL MASKLESS LITHOGRAPHY
(FR) PROCEDES D'EXPOSITION DE MOTIFS ET D'EMULATION DE MASQUES EN LITHOGRAPHIE OPTIQUE SANS MASQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to Optical Maskelss Lithography (OML). In particular, it relates to providing OML with a recognizable relationship to mask and phas-shifr mask techniques.
(FR)La présente invention se rapporte à la lithographie optique sans masque (OML). En particulier, l'invention se rapporte à la mise en oeuvre d'une OML ayant une relation identifiable avec des techniques avec masque et des techniques avec masque à déphasage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)