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1. (WO2005080977) PROCÉDÉ D'ESTIMATION DE L'IRRITATION DE LA PEAU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/080977    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/002902
Date de publication : 01.09.2005 Date de dépôt international : 23.02.2005
CIB :
G01N 33/50 (2006.01), G01N 33/53 (2006.01)
Déposants : ROHTO PHARMACEUTICAL CO., LTD. [JP/JP]; 8-1, Tatsuminishi 1-chome, Ikuno-ku Osaka-shi, Osaka 5448666 (JP) (Tous Sauf US).
ISHII, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HONMA, Yoichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHII, Tsuyoshi; (JP).
HONMA, Yoichi; (JP)
Mandataire : KAWAMIYA, Osamu; Aoyama & Partners, IMP Building 3-7, Shiromi 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5400001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-048501 24.02.2004 JP
Titre (EN) METHOD OF ESTIMATING SKIN IRRITATION
(FR) PROCÉDÉ D'ESTIMATION DE L'IRRITATION DE LA PEAU
(JA) 皮膚刺激性評価方法
Abrégé : front page image
(EN)A convenient testing method for estimating a skin irritation, used to predict the degree of skin irritation by a substance to be applied to the skin. There is provided an irritation estimation method for predicting the degree of skin irritation by a test subject, characterized in that the test subject is brought into contact with skin constituting cultured cells, followed by measuring of the amount of substance P in the culture solution.
(FR)Procédé de test commode servant à estimer une irritation de la peau, utilisé pour prédire le degré d'irritation de la peau par une substance devant être appliquée sur la peau. Il est fourni un procédé d'estimation de l'irritation servant à prédire le degré d'irritation de la peau par un sujet testé, caractérisé en ce qu'on met en contact le sujet testé avec des cellules constituant la peau mises en culture, ce après quoi on mesure la quantité de substance P dans la solution de culture.
(JA) 本発明は皮膚に適用する物質の皮膚に対する刺激性を予測するための、簡便な皮膚刺激性評価試験方法を提供し、この方法は皮膚構成培養細胞と被検体を接触させ、培養液中のサブスタンスP量を測定することを特徴とする、当該被検体の皮膚刺激感を予測するための、刺激性評価方法である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)