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1. (WO2005069703) TRAITEMENT DU PLASMA DE COMPOSANTS A GRAND VOLUME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/069703 N° de la demande internationale : PCT/DE2005/000047
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 14.01.2005
CIB :
C23C 16/509 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01) ,H05H 1/46 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16
Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
44
caractérisé par le procédé de revêtement
50
au moyen de décharges électriques
505
utilisant des décharges à radiofréquence
509
utilisant des électrodes internes
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
46
utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Déposants :
DR. LAURE PLASMATECHNOLOGIE GMBH [DE/DE]; Schwanenstr. 12 70329 Stuttgart, DE (AllExceptUS)
LAURE, Stefan [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs :
LAURE, Stefan; DE
Mandataire :
LUCHT, Silvia; Werderring 15 79098 Freiburg , DE
Données relatives à la priorité :
10 2004 002 878.815.01.2004DE
Titre (DE) PLASMABEHANDLUNG GROSSVOLUMIGER BAUTEILE
(EN) PLASMA TREATMENT OF LARGE-SCALE COMPONENTS
(FR) TRAITEMENT DU PLASMA DE COMPOSANTS A GRAND VOLUME
Abrégé :
(DE) Es werden eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Plasmabehandlung grossvolumiger Bauteile vorgeschlagen. Die Vorrichtung weist eine Vakuumkammer (3) mit einer oder mehreren Pumpen, eine Transportvorrichtung (2) zum Befördern des Bauteils (1) in die Vakuumkammer (3), eine Isolation (4) zwischen dem Bauteil (1) und der Vakuumkammer (3), einen Schwingkreis mit einem Hochfrequenzgenerator (5), eine einstellbare Kapazität und eine einstellbare Induktivität des Schwingkreises und mindestens einen Anschluss zum Verbinden des Schwingkreises mit dem Bauteil (1) auf. Zur Durchführung des Verfahrens wird das Bauteil (1) in der Vakuumkammer (3) angeordnet, die Vakuumkammer evakuiert, das Bauteil (1) an den Schwingkreis mit dem Hochfrequenzgenerator (5) angeschlossen und die Induktivität und/ oder die Kapazität des Schwingkreises auf das Bauteil (1) abgestimmt.
(EN) The invention relates to a device and a method for the plasma treatment of large-scale components. Said device comprises a vacuum chamber (3) containing one or more pumps, a transport device (2) for conveying the component (1) into the vacuum chamber (3), insulation (4) that is situated between the component (1) and the vacuum chamber (3), a resonant circuit comprising a high-frequency generator (5), an adjustable capacitance and an adjustable inductance of the resonant circuit and at least one connection for connecting the resonant circuit to the component (1). To carry out said method, the component (1) is placed in the vacuum chamber (3), the latter is evacuated, the component (1) is connected to the resonant circuit comprising the high-frequency generator (5) and the inductance and/or the capacitance of the resonant circuit is tuned to the component (1).
(FR) L'invention concerne un dispositif et un procédé pour traiter le plasma de composants à grand volume. Le dispositif selon l'invention comprend une chambre à vide (3) qui comporte une ou plusieurs pompes, un dispositif de transport (2) servant à transporter le composant (1) vers la chambre à vide (3), une isolation (4) qui est située entre le composant (1) et la chambre à vide (3), un circuit oscillant qui comporte un générateur haute fréquence (5), un condensateur ajustable et une résistance inductive ajustable qui font partie du circuit oscillant, et au moins une connexion qui sert à connecter le circuit oscillant avec le composant (1). Le procédé selon l'invention consiste : à placer le composant (1) dans la chambre à vide (3); à faire le vide dans ladite chambre à vide; à connecter le composant (1) au circuit oscillant qui comporte le générateur haute fréquence (5) et; à ajuster la résistance inductive et/ou le condensateur du circuit oscillant, en fonction du composant (1).
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Allemand (DE)
Langue de dépôt : Allemand (DE)
Également publié sous:
EP1704756JP2007518233US20110104381DE112005000627