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1. (WO2005069451) SYSTEME DE RAYONS X A LONGUEUR D'ONDE ULTRACOURTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/069451    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/000252
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 07.01.2004
CIB :
H01S 3/00 (2006.01), H01S 3/09 (2006.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN [US/US]; Technology Management Office, Wolverine Tower, Room 2071, 3003 S. State Street, Ann Arbor, MI 48109-1280 (US) (Tous Sauf US).
UMSTADTER, Donald [US/US]; (US) (US Seulement).
HE, Fei [CN/US]; (US) (US Seulement).
LAU, Y., Y. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : UMSTADTER, Donald; (US).
HE, Fei; (US).
LAU, Y., Y.; (US)
Mandataire : DESCHERE, Linda, M.; Harness, Dickey & Pierce, P.L.C., P.O. Box 828, Bloomfield Hills, MI 48303 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) ULTRA-SHORT WAVELENGTH X-RAY SYSTEM
(FR) SYSTEME DE RAYONS X A LONGUEUR D'ONDE ULTRACOURTE
Abrégé : front page image
(EN)A method and apparatus to generate a beam of coherent light including x-rays or XUV by colliding a high-intensity laser pulse with an electron beam that is accelerated by a synchronized laser pulse. Applications include x-ray and EUV lithography, protein structural analysis, plasma diagnostics, x-ray diffraction, crack analysis, non-destructive testing, surface science and ultrafast science.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil pour générer un faisceau de lumière cohérente comprenant des rayons X ou XUV en mettant en collision une impulsion laser haute intensité et un faisceau électronique accéléré par une impulsion laser synchronisée. Les applications de la présente invention concernent la lithographie par rayons X et EUV, l'analyse structurelle des protéines, le diagnostic plasma, la diffraction des rayons X, l'analyse de fissures, les tests non destructifs, la science des surfaces et la science ultrarapide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)