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1. (WO2005069355) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/069355 N° de la demande internationale : PCT/JP2005/000228
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 12.01.2005
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
辻 寿彦 TSUJI, Toshihiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
白石 健一 SHIRAISHI, Kenichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
長坂 博之 NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
中野 勝志 NAKANO, Katsushi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
辻 寿彦 TSUJI, Toshihiko; JP
白石 健一 SHIRAISHI, Kenichi; JP
長坂 博之 NAGASAKA, Hiroyuki; JP
中野 勝志 NAKANO, Katsushi; JP
Mandataire :
志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒1048453 東京都中央区八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku, Tokyo 1048453, JP
Données relatives à la priorité :
2004-00794815.01.2004JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET SON PROCEDE DE FABRICATION
(JA) 露光装置及びデバイスの製造方法
Abrégé :
(EN) An exposure device where a collision between a projection optical system and a substrate or a substrate stage can be easily avoided even if the projection optical system and the substrate are close to each other in distance. An exposure apparatus (EX) has a projection optical system (30) for projecting and transferring a pattern (PA) formed on a mask (R) to a substrate (W) and has a substrate stage (42) placed below the projection optical system (30) and moving, while supporting the substrate (W), in the direction substantially perpendicular to the direction of the optical axis (AX) of the projection optical system (30). The exposure apparatus (EX) further has a detection section (81) provided on the outer periphery of the projection optical system (30) and detecting the position, along the direction of the optical axis (AX), of the substrate stage (42) or the substrate (W) and has a control device (70) for stopping or reversing the movement of the substrate stage (42) based on the result of the detection by the detection section (81).
(FR) Dispositif d'exposition permettant d'éviter sans difficultés une collision entre un système optique de projection et un substrat ou le support de ce substrat, même si ce système optique de projection et ce substrat sont placés à distance étroite l'un de l'autre. Ce dispositif d'exposition (EX) possède un système optique de projection (30) servant à projeter et à transférer une configuration (PA) créée sur un masque (R) afin de l'appliquer à un substrat (W) et comporte un étage de substrat (42) placé au-dessous du système de projection optique (30) et se déplaçant, tout en supportant le substrat (W), dans un sens pratiquement perpendiculaire au sens de l'axe optique (AX) du système de projection optique (30). Ce dispositif d'exposition (EX) possède, de plus, une partie de détection (81) placée sur la périphérie extérieure du système de projection optique (30) et servant à détecter la position, dans le sens de l'axe optique (AX), du support de substrat (42) ou du substrat lui-même (W) et comporte un dispositif de contrôle (70) servant à arrêter ou à inverser le déplacement du support de substrat (42) en fonction du résultat de la détection effectuée par la partie de détection (81).
(JA)  投影光学系と基板との距離が近接している場合であっても、容易に投影光学系と基板或いは基板ステージとの衝突を回避することができる露光装置を提供する。マスク(R)に形成されたパターン(PA)を基板(W)上に投影して転写する投影光学系(30)と、投影光学系(30)の下方に配置され、基板(W)を支持しつつ投影光学系(30)の光軸(AX)方向に略直交する方向に移動する基板ステージ(42)とを有する露光装置EXにおいて、投影光学系(30)の外周に配置され、基板ステージ(42)或いは基板Wの光軸(AX)方向に沿った位置を検出する検出部(81)と、検出部(81)の検出結果に基づいて基板ステージ(42)の移動を停止或いは反転させる制御装置(70)とを備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
KR1020060128912EP1705695EP2037489JPWO2005069355JP2011077558US20070164234
JP4710611