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1. (WO2005069344) ENSEMBLE CHICANE DE DISTRIBUTION DU GAZ POUR REACTEURS A PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/069344 N° de la demande internationale : PCT/US2005/001004
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 12.01.2005
CIB :
H01J 37/32 (2006.01) ,H01L 21/00 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32
Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
Déposants :
AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 108 Cherry Hill Drive Beverly, MA 01915, US (AllExceptUS)
SRIVASTAVA, Aseem [IN/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
SRIVASTAVA, Aseem; US
Mandataire :
R.G.C. JENKINS & CO.; 26 Caxton Street London SW1H 0RJ, GB
Données relatives à la priorité :
10/755,61712.01.2004US
Titre (EN) GAS DISTRIBUTION PLATE ASSEMBLY FOR PLASMA REACTORS
(FR) ENSEMBLE CHICANE DE DISTRIBUTION DU GAZ POUR REACTEURS A PLASMA
Abrégé :
(EN) A baffle plate assembly for distributing gas flows into an adjacent process chamber containing a semiconductor wafer to be processed includes a planar gas distribution portion having a plurality of apertures therein; a flange surrounding the gas distribution portion; and an impingement device centrally attached to the gas distribution portion, wherein the device includes a cap and a stem, the stem being in thermal contact with the gas distribution portion. Also disclosed herein are plasma reactors employing the baffle plate assembly and methods for reducing recombination of species in a plasma.
(FR) L'invention concerne un ensemble chicane servant à distribuer des débits gazeux dans une chambre de traitement adjacente contenant une plaquette à semiconducteur devant être traitée. L'ensemble chicane comprend: une partie planaire de distribution du gaz comportant plusieurs ouvertures; une bride entourant la partie de distribution du gaz; et un dispositif d'impact central fixé à la partie de distribution du gaz, ledit dispositif comprenant une coiffe et une tige, ladite tige étant en contact thermique avec la partie de distribution du gaz. L'invention concerne également des réacteurs à plasma employant l'ensemble chicane et des procédés qui permettent de réduire une recombinaison d'espèces dans un plasma.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020060122899EP1706889JP2007520880CN1910726