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1. (WO2005069082) APPAREIL ET PROCEDE DE MESURE DE DIMENSIONS CRITIQUES DIFFERENTIELLES ET DE CACHES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/069082    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/041438
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 19.12.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.08.2005    
CIB :
G01B 9/00 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road, Armonk, New York, NY 10504 (US) (Tous Sauf US).
AUSSCHNITT, Christopher [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : AUSSCHNITT, Christopher; (US)
Mandataire : LI, Todd, M., C.; International Business Machines Corporation, Zip 482, 2070 Route 52, Hopewell Junction, NY 12533 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DIFFERENTIAL CRITICAL DIMENSION AND OVERLAY METROLOGY APPARATUS AND MEASUREMENT METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCEDE DE MESURE DE DIMENSIONS CRITIQUES DIFFERENTIELLES ET DE CACHES
Abrégé : front page image
(EN)A method is described for measuring a dimension on a substrate, wherein a target pattern (455) is provided with a nominal characteristic dimension that repeats at a primary pitch of period P, and has a pre-determined variation orthogonal to the primary direction. The target pattern (455) formed on the substrate is then illuminated so that at least one non-zero diffracted order is detected. The response of the non-zero diffracted order to variation in the printed characteristic dimension relative to nominal is used to determine the dimension of interest, such as critical dimension or overlay, on the substrate. An apparatus (40) for performing the method of the present invention includes an illumination source (410), a detector (460) for detecting a non-zero diffracted order, and means for positioning the source (410) relative to the target (455) so that one or more non-zero diffracted orders from the target (455) are detected at the detector (460).
(FR)L'invention porte sur une méthode de mesure d'une dimension sur un substrat utilisant un motif cible (455) d'une dimension nominale caractéristique se répétant avec un pas primaire de période <i>P</i> et présentant une variation prédéterminée orthogonale à la direction primaire. Ledit motif (455) formé sur le substrat est ensuite éclairé de manière à pouvoir détecter au moins un ordre de diffraction non nul, dont la réponse à une variation de la dimension caractéristique imprimée par rapport à la dimension nominale sert à déterminer sur le substrat la dimension d'intérêt, par exemple une dimension critique ou un masque. L'invention porte également sur un appareil de mise en oeuvre de ladite méthode comprenant: une source lumineuse (410), un détecteur (460) d'ordre de diffraction non nul, et un moyen de positionnement de la source lumineuse (410) par rapport à la cible, pour que le détecteur (460) puisse détecter un ou plusieurs ordres de diffraction non nuls à partir de la cible.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)