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1. (WO2005069079) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE DE FRONT D'ONDE D'UN SYSTEME DE REPRODUCTION OPTIQUE ET SYSTEME D'ECLAIRAGE A PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/069079 N° de la demande internationale : PCT/EP2004/000291
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 16.01.2004
CIB :
G02F 1/29 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
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pour la commande de la position ou de la direction des rayons lumineux, c. à d. déflexion
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
EMER, Wolfgang [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs :
EMER, Wolfgang; DE
Mandataire :
RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Kronenstrasse 30 70174 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité :
Titre (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR WELLENFRONTVERMESSUNG EINES OPTISCHEN ABBILDUNGSSYSTEMS UND MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) DEVICE AND METHOD FOR WAVE FRONT MEASURING OF AN OPTICAL REPRODUCTION SYSTEM AND MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION ILLUMINATION SYSTEM
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE DE FRONT D'ONDE D'UN SYSTEME DE REPRODUCTION OPTIQUE ET SYSTEME D'ECLAIRAGE A PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(DE) Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Wellenfrontvermessung eines optischen Abbildungssystems (5) und auf eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, die mit einer solchen Vorrichtung ausgerüstet ist. Erfindungsgemäß weist die Vorrichtung eine Wellenfronterzeugungseinheit, die ein optisches Element (1) mit einer objektseitigen periodischen Struktur (2) und eine Lichtquelleneinheit zur Beleuchtung der objektseitigen periodischen Struktur mit einer Messstrahlung umfasst, sowie eine auf der Bildseite des zu vermessenden Abbildungssystems anzuordnende Detektoreinheit auf, die ein optisches Element (3) mit einer bildseitigen periodischen Struktur (4) und ein Detektorelement zur Erfassung eines Überlagerungsmusters von abgebildeter objektseitiger periodischer Struktur und bildseitiger periodischer Struktur umfasst. Die Wellenfronterzeugungseinheit ist auf eine Begrenzung des Winkelspektrums (6) der von einem jeweiligen Feldpunkt (7) ausgehenden Messstrahlung derart ausgelegt, dass die vom jeweiligen Feldpunkt ausgehende Messstrahlung nur jeweils einen bestimmten Teilbereich (8) einer Pupillenebene (9) des optischen Abbildungssystems ausleuchtet. Verwendung z.B. zur Wellenfrontvermessung von Mikrolithographie-Projektionsobjektiven.
(EN) The invention relates to a device and method for wave front measuring of an optical reproduction system and microlithographic projection illumination system. The invention also relates to a device and a method for wave front measuring of an optical reproduction system (5) and to a microlithographic projection illumination system which is equipped with said type of device. The invention is characterised in that the device comprises a wave front generation unit comprising an optical element (1) having a periodic structure on the object side, and a light source unit which is used to illuminate the object-sided periodic structure with measuring radiation, in addition to a detector unit which is associated with the image side of the reproduction system which is to be measured. Said detector unit comprises an optical element (3) provided with a periodic structure (4) on the image side, and a detector element which is used to detect a superimposed model of the periodic structure formed on the object side and the periodic structure on the image side. The wave front generation unit is provided for limiting the angle spectrum (6) of the measuring radiation leading from the respective field points (7) in such a manner that the measuring radiation leading from the respective field points illuminates only one specific partial area (8) of a pupil plane (9) of the optical reproduction system. The invention also relates to the use of said device, for example, for wave front measuring microlithographic projection objectives.
(FR) L'invention concerne un dispositif et un procédé de mesure de front d'onde d'un système de reproduction optique (5), ainsi qu'un système d'éclairage à projection microlithographique qui est équipé d'un tel dispositif. L'invention est caractérisée en ce que le dispositif présente une unité de production de front d'onde comprenant un élément optique (1) à structure périodique (2) côté objet, et une unité à source lumineuse pour l'éclairage de ladite structure périodique côté objet, dotée d'un rayonnement de mesure, ainsi qu'une unité détectrice disposée sur le côté image du système de reproduction à mesurer, et en ce que cette dernière unité comprend un élément optique (3) doté d'une structure périodique côté image (4) et un élément détecteur pour la détection d'un modèle de superposition de la structure périodique côté objet reproduite et de la structure périodique côté image. L'unité de production de front d'onde est prévue pour une limitation du spectre angulaire (6) du rayonnement de mesure provenant d'un point respectif du champ (7), de telle façon que le rayonnement de mesure provenant de ce point illumine respectivement une zone partielle déterminée (8) d'un plan pupillaire (9) du système de reproduction optique. L'invention concerne en outre l'utilisation du dispositif précité, par exemple, pour la mesure de front d'onde d'objectifs de projection microlithographique.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Allemand (DE)
Langue de dépôt : Allemand (DE)
Également publié sous:
KR1020060132641JP2007518256US20050200940JP4545155