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1. (WO2005069077) PROCEDE ET SYSTEME DE REVETEMENT D'UNE SOLUTION POLYMERE SUR LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/069077 N° de la demande internationale : PCT/US2004/033903
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 13.10.2004
CIB :
G03F 7/16 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
16
Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DT Veldhoven, NL (AllExceptUS)
NGUYEN, Andrew [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
NGUYEN, Andrew; US
Mandataire :
BERNADICOU, Michael, A. ; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman, LLP 12400 Wilshire Boulevard 7th Floor Los Angeles, CA 90025, US
Données relatives à la priorité :
10/748,37029.12.2003US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM OF COATING POLYMER SOLUTION ON SURFACE OF A SUBSTRATE
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE REVETEMENT D'UNE SOLUTION POLYMERE SUR LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
Abrégé :
(EN) A method and system of coating a polymer solution on a substrate such as a semiconductor wafer. The method includes providing a substrate. Dispensing a polymer solution onto the surface of the substrate using a pump. The pump is connected in-line with a buffer tank and a polymer solution source such that the pump draws the polymer solution from the polymer solution source and the buffer tank in a continuous fluid path to dispense the polymer solution. The polymer solution source is connected to a pressure source capable of causing a transfer of the polymer solution from the polymer solution source into the buffer tank. The buffer tank to maintain a relatively constant level of polyme:, solution.
(FR) L'invention concerne un procédé et un système permettant de recouvrir un substrat, tel qu'une plaquette semi-conductrice, d'une solution polymère. Ce procédé consiste à fournir un substrat, à disperser une solution polymère sur la surface du substrat au moyen d'une pompe. La pompe est reliée en ligne à un réservoir tampon et à une source de solution polymère, de telle manière que la pompe amène la solution polymère de ladite source et du réservoir tampon dans une voie de liquide continue, afin de distribuer ladite solution polymère. La source de solution polymère est reliée à une source de pression capable d'engendrer le transfert de la solution polymère de ladite source de solution polymère dans le réservoir tampon. Ce dernier permet de maintenir un niveau relativement constant de solution polymère.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
JP2007523471JP4580940