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1. (WO2005068983) MESURE DES PROPRIETES OPTIQUES DE MATERIAUX RADIOSENSIBLES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/068983 N° de la demande internationale : PCT/EP2004/053716
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 28.12.2004
CIB :
G01B 11/06 (2006.01) ,G01N 21/84 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
B
MESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11
Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
02
pour mesurer la longueur, la largeur ou l'épaisseur
06
pour mesurer l'épaisseur
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
INFINEON TECHNOLOGIES AG [DE/DE]; St.-Martin-Str. 53 81669 München, DE (AllExceptUS)
ZIGER, David [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
ZIGER, David; US
Mandataire :
KINDERMANN, Peter ; Patentanwälte Kindermann P.O. Box 100234 85593 Baldham, DE
Données relatives à la priorité :
10/755,42012.01.2004US
Titre (EN) MEASUREMENT OF OPTICAL PROPERTIES OF RADIATION SENSITIVE MATERIALS
(FR) MESURE DES PROPRIETES OPTIQUES DE MATERIAUX RADIOSENSIBLES
Abrégé :
(EN) A system (201) and method for measuring optical properties of films (104) deposited or formed on semiconductor wafers (100). Measurements of an optical property are made in a plurality of non-overlapping locations (216) within a test region (206) of a film at a low radiation dose, and the measurements are averaged. The radiation dose is less than the actinic radiation dose of the film, so that chemical changes in the film are not caused by the measurements. The measurements may be calibrated to prior art methods, and the results may be adjusted by the adjustment or calibration factor.
(FR) L'invention concerne un système (201) et un procédé permettant de mesurer les propriétés optiques de films (104) déposés ou formés sur des plaquettes semi-conductrices (100). Les mesures d'une propriété optique sont effectuées dans plusieurs emplacements qui ne se chevauchent pas (216) à l'intérieur d'une zone d'essai (206) d'un film à une faible dose de rayonnement, et on fait la moyenne de ces mesures. La dose de rayonnement est inférieure à la dose de rayonnement actinique du film, si bien que les changements chimiques du film ne sont pas dus aux mesures. Les mesures peuvent être calibrées en fonction des procédés de la technique antérieure et les résultats peuvent être ajustés au moyen d'un facteur d'ajustement ou de calibrage.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
JP2007518983US20050151962DE112004002478