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1. (WO2005067753) MASQUES FACIAUX CONTENANT UNE COMPOSITION ANTIBUEE/ANTIREFLET
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/067753 N° de la demande internationale : PCT/US2004/018876
Date de publication : 28.07.2005 Date de dépôt international : 10.06.2004
CIB :
C08J 7/04 (2006.01) ,C09D 105/08 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
7
Traitement chimique ou revêtement d'objets façonnés faits de substances macromoléculaires
04
Revêtement
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
D
COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
105
Compositions de revêtement à base de polysaccharides ou de leurs dérivés, non prévues dans les groupes C09D101/ ou C09D103/163
08
Chitine; Sulfate de chondroïtine; Acide hyaluronique; Leurs dérivés
Déposants :
KIMBERLY-CLARK WORLDWIDE, INC. [US/US]; 401 N. Lake Street Neenah, Wisconsin 54956, US (AllExceptUS)
YAHIAOUI, Ali [US/US]; US (UsOnly)
QUINCY, Roger [US/US]; US (UsOnly)
MACDONALD, Gavin [US/US]; US (UsOnly)
STEINDORF, Eric [US/US]; US (UsOnly)
BROSTIN, Joel [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
YAHIAOUI, Ali; US
QUINCY, Roger; US
MACDONALD, Gavin; US
STEINDORF, Eric; US
BROSTIN, Joel; US
Mandataire :
JOHNSTON, Jason, W.; Dority & Manning, P.A. P.O. Box 1449 Greenville, South Carolina 29602-1449 , US
Données relatives à la priorité :
10/739,53118.12.2003US
Titre (EN) FACEMASKS CONTAINING AN ANTI-FOG/ANTI-GLARE COMPOSITION
(FR) MASQUES FACIAUX CONTENANT UNE COMPOSITION ANTIBUEE/ANTIREFLET
Abrégé :
(EN) A coating composition that is incorporated into a facemask to reduce fogging and glare is provided. For example, in one embodiment, the facemask contains a shield or visor formed from a transparent substrate having at least one surface applied with the coating composition of the present invention. The present inventors have unexpectedly discovered that one or more water-soluble organic polymers, such as ethyl hydroxyethylcellulose, may be utilized as a principal component of the coating composition to reduce fogging and glare in a simple, yet effective manner.
(FR) L'invention concerne une composition de revêtement incorporée dans un masque facial afin de réduire la buée et les reflets. Dans un mode de réalisation, par exemple, le masque facial comprend une protection ou une visière formée d'un substrat transparent dont une surface au moins est revêtue de la composition de revêtement de l'invention. Les inventeurs ont découverts, de manière inattendue, qu'un ou plusieurs polymère(s) organique(s), tels que l'hydroxyéthylcellulose d'éthyle, peuvent être utilisés comme composant principal de la composition de revêtement afin de réduire la buée et les reflets de manière simple et cependant efficace.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
MXPA/a/2006/006808KR1020060121200EP1694153JP2007522350RU02362467CN1893843
CA2548514AU2004313357IN2143/CHENP/2006BRPI0417477