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1. (WO2005067016) VAPORISATEUR POUR CVD, SYSTEME CVD A VAPORISATION DE SOLUTION ET PROCEDE DE VAPORISATION POUR CVD
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/067016    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/006633
Date de publication : 21.07.2005 Date de dépôt international : 17.05.2004
CIB :
C23C 16/448 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/31 (2006.01)
Déposants : YOUTEC CO., LTD. [JP/JP]; 956-1, Nishi-hirai Nagareyama-shi, Chiba 2700156 (JP) (Tous Sauf US).
YAMOTO, Hisayoshi [JP/JP]; (JP)
Inventeurs : YAMOTO, Hisayoshi; (JP)
Mandataire : YANASE, Mutsuyasu; Patent Attorneys "Shinpo" 1-20-10-203, Takadanobaba Shinjuku-ku, Tokyo 1690075 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-432566 26.12.2003 JP
Titre (EN) VAPORIZER FOR CVD, SOLUTION VOPORIZING CVD SYSTEM AND VOPORIZATION METHOD FOR CVD
(FR) VAPORISATEUR POUR CVD, SYSTEME CVD A VAPORISATION DE SOLUTION ET PROCEDE DE VAPORISATION POUR CVD
(JA) CVD用気化器、溶液気化式CVD装置及びCVD用気化方法
Abrégé : front page image
(EN)[PROBLEMS] A vaporizer for CVD, a solution vaporizing CVD system and a vaporization method for CVD in which continuous use time is prolonged by suppressing clogging of solution piping, or the like. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] The vaporizer for CVD comprises a plurality of material solution pipe lines (1, 2) for supplying a plurality of material solutions separatedly, a carrier gas pipe line (3) arranged to surround the outside of the plurality of material solution pipe lines (1, 2) and feeding compressed carrier gas respectively to the outsides of the plurality of material solution pipe lines (1, 2), a pore provided at the forward end of the carrier gas pipe line (3) while being spaced apart from the forward end of the material solution pipe lines (1, 2), a vaporization tube (13) connected with the forward end of the carrier gas pipe line (3) and linked to the interior of the carrier gas pipe line (3) through the pore, and a heater for heating the vaporization tube (13).
(FR)L'invention présente un vaporisateur pour dépôt chimique en phase vapeur CVD, un système CVD à vaporisation de solution et un procédé de vaporisation pour CVD dans lequel le temps d'utilisation continu est prolongé par suppression du bouchage des conduits de solutions ou analogue. Le vaporisateur pour CVD comprend une pluralité de conduits (1, 2) de solutions destinés à fournir une pluralité de solutions séparément, un conduit (3) de gaz porteur agencé pour entourer l'extérieur de la pluralité des conduits (1, 2) de solutions et pour fournir un gaz porteur comprimé respectivement aux parties extérieures de la pluralité de conduits (1, 2) de solutions, un pore ménagé à l'extrémité avant du conduit (3) de gaz porteur tout en étant espacé de l'extrémité avant des conduits (1, 2) de solutions, un tube de vaporisation (13) relié à l'extrémité avant du conduit (3) de gaz porteur et relié à la partie intérieure du conduit (3) de gaz porteur par le pore, ainsi qu'un appareil de chauffage destiné à chauffer le tube de vaporisation (13).
(JA)【課題】 本発明は、溶液配管等における目詰まりを抑制して連続使用時間を長くしたCVD用気化器、溶液気化式CVD装置及びCVD用気化方法に関する。 【解決手段】 本発明に係るCVD用気化器は、複数の原料溶液を互いに分離して供給する複数の原料溶液用配管1,2と、前記複数の原料溶液用配管1,2の外側を包むように配置され、加圧されたキャリアガスが前記複数の原料溶液用配管1,2それぞれの外側に流されるキャリアガス用配管3と、前記キャリアガス用配管3の先端に設けられ、前記原料溶液用配管1,2の先端から離隔された細孔と、前記キャリアガス用配管3の先端に接続され、前記細孔によって該キャリアガス用配管3の内部に繋げられた気化管13と、前記気化管13を加熱する加熱手段であるヒーターと、を具備する。                                                                                 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)