Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2005067008) PROCEDE ET SYSTEME D'APPLICATION D'UNE SOLUTION POLYMERE SUR UN SUBSTRAT DANS UNE CHAMBRE SATUREE EN SOLVANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/067008 N° de la demande internationale : PCT/US2004/041203
Date de publication : 21.07.2005 Date de dépôt international : 10.12.2004
CIB :
B05D 1/00 (2006.01) ,H01L 21/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
D
PROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
1
Procédés pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides aux surfaces
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
Déposants :
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DT Veldhoven, NL (AllExceptUS)
NGUYEN, Andrew [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
NGUYEN, Andrew; US
Mandataire :
BERNADICOU, Michael, A. ; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 7th Floor 12400 Wilshire Boulevard Los Angeles, CA 90025, US
Données relatives à la priorité :
10/748,45729.12.2003US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR COATING POLYMER SOLUTION ON A SUBSTRATE IN A SOLVENT SATURATED CHAMBER
(FR) PROCEDE ET SYSTEME D'APPLICATION D'UNE SOLUTION POLYMERE SUR UN SUBSTRAT DANS UNE CHAMBRE SATUREE EN SOLVANT
Abrégé :
(EN) A method and apparatus of coating a polymer solution on a substrate such as a semiconductor wafer. The apparatus includes a coating chamber having a rotatable chuck to support a substrate to be coated with a polymer solution. A dispenser to dispense the polymer solution over the substrate extends into the coating chamber. A vapor distributor having a solvent vapor generator communicable with the coating chamber is included to cause a solvent to be transformed into a solvent vapor. A carrier gas is mixed with the solvent vapor to form a carrier-solvent vapor mixture. The carrier-solvent vapor mixture is flown into the coating chamber to saturate the coating chamber. A solvent remover communicable with the coating chamber is included to remove excess solvent that does not get transformed into the solvent vapor to prevent the excess solvent from dropping on the substrate.
(FR) L'invention concerne un procédé et un appareil d'application d'une solution polymère sur un substrat de type plaquette de semi-conducteurs. L'appareil de l'invention comprend une chambre de revêtement qui possède un mandrin rotatif conçu pour porter un substrat destiné à être revêtu par une solution polymère. Un organe de distribution conçu pour distribuer la solution polymère sur le substrat s'étend dans la chambre de revêtement. Un organe de distribution de vapeur qui comprend un générateur de vapeur de solvant pouvant communiquer avec la chambre de revêtement est présent pour amener un solvant à être transformé en vapeur de solvant. Un gaz support est mélangé à la vapeur de solvant afin que soit formé un mélange support-vapeur de solvant. Ce mélange support-vapeur de solvant est diffusé dans la chambre de revêtement afin de saturer cette dernière. Un extracteur de solvant pouvant communiquer avec la chambre de revêtement est présent pour extraire le solvant en excès qui n'est pas transformé en vapeur de solvant de manière à empêcher le solvant en excès de couler sur le substrat.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
JP2007517399JP4484880