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1. (WO2005066615) PROCEDE ET SYSTEME POUR COMPENSER LES DIFFERENCES D'INTENSITE DE LAMPES DANS UN OUTIL DE CONTROLE PHOTOLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/066615 N° de la demande internationale : PCT/US2004/041552
Date de publication : 21.07.2005 Date de dépôt international : 09.12.2004
CIB :
G01N 21/27 (2006.01) ,G01N 21/93 (2006.01) ,G01N 21/95 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
17
Systèmes dans lesquels la lumière incidente est modifiée suivant les propriétés du matériau examiné
25
Couleur; Propriétés spectrales, c. à d. comparaison de l'effet du matériau sur la lumière pour plusieurs longueurs d'ondes ou plusieurs bandes de longueurs d'ondes différentes
27
en utilisant la détection photo-électrique
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
93
Étalons de détection; Calibrage
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956
Inspection de motifs sur la surface d'objets
Déposants :
TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; TBS Broadcast Center 3-6 Akasaka 5-chome Minato-ku Tokyo 107, JP (AllExceptUS)
TOKYO ELECTRON AMERICA, INC. [US/US]; 2400 Grove Boulevard Austin, TX 78741, US (JP)
DIXON, David [US/US]; US (UsOnly)
LEE, Lloyd [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
DIXON, David; US
LEE, Lloyd; US
Mandataire :
FREI, Donald, F.; Wood, Herron & EvanS, L.L.P. 2700 Carew Tower Cincinnati, OH 45202, US
Données relatives à la priorité :
10/749,88731.12.2003US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM TO COMPENSATE FOR LAMP INTENSITY DIFFERENCES IN A PHOTOLITHOGRAPHIC INSPECTION TOOL
(FR) PROCEDE ET SYSTEME POUR COMPENSER LES DIFFERENCES D'INTENSITE DE LAMPES DANS UN OUTIL DE CONTROLE PHOTOLITHOGRAPHIQUE
Abrégé :
(EN) An after develop inspection tool (108, 400) considers tool-to-tool variability when determining confidence score for wafers under inspection. A golden wafer is used to calculate a RGB signature (Figs. 2A-2B) as well as the slope of the individual RGB curves (202, 204, 206) for different lamp intensities. These slopes are normalized in order to generate a compensation factor for red values and blue values within a signature. When a wafer (402) is subsequently inspected at an ADI station (400) using a different lamp (406), the test wafer RGB signature is likely captured at a different lamp intensity. Consequently, when comparing the signatures, the golden wafer RGB signature is adjusted by the compensation factors, based on the different lamp’s intensity setting, and this adjusted RGB signature is then used to determine whether a defect exists on the test wafer.
(FR) Selon l'invention, un outil de contrôle post-développement (108, 400) prend en considération les variations d'outil à outil, lors de la détermination d'un score de fiabilité de plaquettes contrôlées. Une plaquette de référence est utilisée pour calculer une signature RVB ainsi que la pente de courbes RVB (202, 204, 206) individuelles pour différentes intensités de lampes. Ces courbes sont normalisées de façon à créer un facteur de compensation pour les valeurs de rouge et de bleu dans une signature. Lorsqu'une plaquette (402) est ensuite contrôlée dans une station de contrôle post-développement (400) au moyen d'une lampe différente (406), la signature RVB de la plaquette testée est susceptible d'être capturée à une intensité de lampe différente. Par conséquent, lors de la comparaison des signatures, la signature RVB de la plaquette de référence est ajustée au moyen de facteurs de compensation, en fonction du réglage d'intensité de la lampe différente, et cette signature RVB ajustée est ensuite utilisée pour permettre de déterminer si la plaquette testée présente un défaut.
front page image
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)