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1. (WO2005066073) NOUVELLE MATIERE ET PROCEDE DE FABRICATION ASSOCIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/066073 N° de la demande internationale : PCT/GB2004/005243
Date de publication : 21.07.2005 Date de dépôt international : 15.12.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 24.08.2005
CIB :
C01B 33/02 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33
Silicium; Ses composés
02
Silicium
Déposants :
PSIMEDICA LIMITED [GB/GB]; Malvern Hills Science Park Geraldine Road Malvern,WR14 3SZ, GB (AllExceptUS)
DUNKLEY, John, Joseph [GB/GB]; GB (UsOnly)
TELFORD, Brett [GB/GB]; GB (UsOnly)
CONNOR, Stephen, Edward [GB/GB]; GB (UsOnly)
Inventeurs :
DUNKLEY, John, Joseph; GB
TELFORD, Brett; GB
CONNOR, Stephen, Edward; GB
Mandataire :
GREAVES, Carol, Pauline ; Greaves Brewster LLP Indigo House Cheddar Business Park Wedmore Road Cheddar, Somerset BS27 3EB, GB
Données relatives à la priorité :
0400149.106.01.2004GB
Titre (EN) NEW MATERIAL AND METHOD OF FABRICATION THEREFOR
(FR) NOUVELLE MATIERE ET PROCEDE DE FABRICATION ASSOCIE
Abrégé :
(EN) The present invention concerns new methods of fabricating a silicon material comprising phosphorus. The methods allow high levels of phosphorus to be combined with the silicon. In one aspect of the invention a sample of phosphorus is surrounded with a sample of silicon. At least some of the phosphorus is then vaporised and caused to interact with the silicon.
(FR) La présente invention se rapporte à de nouveaux procédés de fabrication d'une matière à base de silicium comportant du phosphore. Ces procédés permettent la combinaison de taux élevé de phosphore avec le silicium. Dans un mode de réalisation de l'invention, un échantillon de phosphore est entouré d'un échantillon de silicium. Au moins une partie du phosphore est ensuite vaporisée puis amenée à interagir avec le silicium.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020070001091EP1704118JP2007517758US20070190761RU0002423148CN1902130
GB2409924DK1704118IN1752/KOLNP/2006