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1. (WO2005065843) DISPOSITIF DE PULVERISATION HAUTE FREQUENCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/065843 N° de la demande internationale : PCT/EP2005/000041
Date de publication : 21.07.2005 Date de dépôt international : 05.01.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 26.10.2005
CIB :
B05B 5/08 (2006.01) ,B05B 15/04 (2006.01) ,B05B 15/12 (2006.01) ,B05B 17/06 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
5
Pulvérisation électrostatique; Dispositifs de pulvérisation comportant des moyens pour charger électriquement le pulvérisat; Pulvérisation de liquides ou d'autres matériaux fluides par voies électriques
08
Installations pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides à des objets
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
15
Parties constitutives des installations ou des appareillages de pulvérisation non prévus ailleurs; Accessoires
04
Réglage de l'aire de pulvérisation, p.ex. à l'aide de masques, d'écrans latéraux; Moyens pour collecter ou réutiliser l'excès de matière
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
15
Parties constitutives des installations ou des appareillages de pulvérisation non prévus ailleurs; Accessoires
12
Cabines de pulvérisation
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
17
Appareils de pulvérisation ou d'atomisation de liquides ou d'autres matériaux fluides, non couverts par les autres groupes de la présente sous-classe
04
opérant suivant des procédés particuliers
06
utilisant des vibrations ultrasonores
Déposants :
BLUE MEMBRANES GMBH [DE/DE]; Industriepark G 359 Rheingaustrasse 190 - 196 65203 Wiesbaden, DE (AllExceptUS)
KUNSTMANN, Jürgen [DE/DE]; DE (UsOnly)
RATHENOW, Jörg [DE/DE]; DE (UsOnly)
ASGARI, Sohéil [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs :
KUNSTMANN, Jürgen; DE
RATHENOW, Jörg; DE
ASGARI, Sohéil; DE
Mandataire :
GLAS, Holger; Maiwald Patentanwalts GmbH Elisenhof Elisenstrasse 3 80335 München, DE
Données relatives à la priorité :
10 2004 001 095.105.01.2004DE
Titre (DE) HOCHFREQUENZZERSTÄUBUNGSVORRICHTUNG
(EN) HIGH FREQUENCY SPRAYING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PULVERISATION HAUTE FREQUENCE
Abrégé :
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Hochfrequenzzerstäubungsvorrichtung, die geeignet ist Substrate mit einer Beschichtungsflüssigkeit zu beschichten. Erfindungsgemäß erfolgt die Beschichtung mit Hilfe einer Zerstäubungseinheit (1), die beispielsweise mit einem piezokeramischen Element zu frequenten Schwingungen angeregt wird, wodurch die Beschichtungsflüssigkeit zu Kapillarwellen angeregt wird, an deren Schwingungsbäuchen sich feinste Beschichtungsmitteltröpfchen abschnüren. Die erfindungsgemäße Hochfrequenzzerstäubungsvorrichtung umfasst ferner einen Substrathalter (8), mit dem das zu beschichtende Substrat (14) während des gesamten Beschichtungsvorgangs in einer für die Beschichtung geeigneten Position gehalten werden kann und anschließend in den Bereich einer Trocknungsvorrichtung (6) bewegt werden kann, wo das frisch beschichtete Substrat (14) getrocknet werden kann. Bevorzugt umfasst die erfindungsgemäße Vorrichtung eine Absaugvorrichtung (10), um das Overspray abzusaugen, eine Vorrichtung zur Temperierung der Auftragskammer oder Teilen der Auftragskammer und/oder der eingesetzten Beschichtungslösungen, sowie ein Anoden- und Polplattensystem zur Erzeugung von Magnetfeldern und/oder elektrostatischen bzw. ionisierenden Feldern zur Beeinflussung der Verteilung von Beschichtungslösungen und/oder der geometrischen Ausrichtung von Partikel-Komponenten solcher Beschichtungslösungen.
(EN) The invention relates to a high frequency spraying device which is suitable for coating substrates with a coating fluid. According to the invention, coating is carried out with the aid of spray unit (1) which, for example is excited with a piezoceramic element at frequent vibrations, whereby the coating fluid undergoes capillary wave excitation and extremely fine coating agent drops are pinched off at the nodal points thereof. The inventive high-frequency atomization device also comprises a substrate holder (8) enabling the substrate (14) which is to be coated to be maintained in a position which is suitable for coating and to be subsequently moved into the area of a drying device (6) where the freshly coated substrate (14) can be dried. Preferably, the inventive device comprises a suction device (10) which is used to suction the overspray, a device for tempering the application chamber or parts of the application chamber and/or the used coating solutions, in addition to an anode and pole flange plate system for producing magnetic fields and/or electrostatic or ionizing fields in order to influence the distribution of coating solutions and/or the geometric orientation of particle components of said coating solutions.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de pulvérisation haute fréquence qui peut être utilisé pour revêtir des substrats avec un liquide de revêtement. Selon l'invention, le revêtement s'effectue au moyen d'une unité de pulvérisation (1) qui est mise en oscillations haute fréquence par exemple au moyen d'un élément piézo-céramique, ce qui permet d'appliquer au liquide de revêtement des ondes capillaires, de très fines gouttelettes d'agent de revêtement étant formées par étranglement au niveau des amplitudes maximales desdites ondes capillaires. Le dispositif de pulvérisation haute fréquence comprend également un système de maintien de substrat (8) qui sert à maintenir le substrat à revêtir (14) au cours de l'ensemble du processus de revêtement, dans une position qui convient au revêtement, puis à le déplacer au niveau d'un dispositif de séchage (6) où le substrat fraîchement revêtu (14) est séché. Le dispositif comprend de préférence un dispositif d'aspiration (10) qui sert à aspirer l'excès de pulvérisation, un dispositif pour tempérer la chambre d'application ou des parties de la chambre d'application et/ou les solutions de revêtement utilisées, ainsi qu'un système d'anodes et de plaques polaires qui sert à produire des champs magnétiques et/ou des champs électrostatiques ou ionisants destinés à agir sur la répartition de solutions de revêtement et/ou l'orientation géométrique des composantes particulaires de ces solutions de revêtement.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Allemand (DE)
Langue de dépôt : Allemand (DE)
Également publié sous:
KR1020070000470IL176279ES2299992EP1701802JP2007517647US20090032612
CN1905950CA2549372AU2005203882IN3455/DELNP/2006