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1. (WO2005064652) APPAREILS ET PROCEDES POUR NETTOYER UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/064652    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/043740
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 21.12.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.07.2005    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
DE LARIOS, John, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
OWCZARZ, Aleksander [US/US]; (US) (US Seulement).
SCHOEPP, Alan [US/US]; (US) (US Seulement).
REDEKER, Fritz [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DE LARIOS, John, M.; (US).
OWCZARZ, Aleksander; (US).
SCHOEPP, Alan; (US).
REDEKER, Fritz; (US)
Mandataire : HSU, Michael, K.; Martine & Penilla, LLP, 710 Lakeway Drive, Suite 200, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
10/746,114 23.12.2003 US
10/816,337 31.03.2004 US
Titre (EN) APPARATUSES AND METHODS FOR CLEANING A SUBSTRATE
(FR) APPAREILS ET PROCEDES POUR NETTOYER UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus for use in processing a substrate (216) includes a brush enclosure (212) extending over a length. The brush enclosure (212) is configured to be disposed over a surface of the substrate (216) and has an open region that is configured to be disposed in proximity to the substrate (216). The open region extends over the length of the brush enclosure (212) and enables foam (410) from within the brush enclosure (212) to contact the surface of the substrate (216). A substrate cleaning system and method for cleaning a substrate are also described.
(FR)Un appareil destiné à être utilisé dans le traitement d'un substrat (216) comprend une enceinte pour brosse (212) qui s'étend sur une certaine longueur. L'enceinte pour brosse (212) est configurée pour être disposée sur une surface du substrat (216) et comporte une région ouverte qui est configurée pour être disposée à proximité du substrat (216). La région ouverte s'étend sur la longueur de l'enceinte pour brosse (212) et permet à la mousse (410) provenant de l'intérieur de l'enceinte pour brosse (212) d'entrer en contact avec la surface du substrat (216). L'invention concerne aussi un système et un procédé destinés à nettoyer un substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)