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1. (WO2005064642) APPAREIL SUPPORT DE SUBSTRAT, PROCEDE PERMETTANT DE SUPPORTER UN SUBSTRAT, ET APPAREIL DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/064642    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/019681
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 22.12.2004
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01)
Déposants : EBARA CORPORATION [JP/JP]; 11-1, Haneda Asahi-cho, Ohta-ku, Tokyo 1448510 (JP) (Tous Sauf US).
SEKIMOTO, Masahiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATSUOKA, Seiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
DAI, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WATANABE, Teruyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OGAWA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MOTOSHIMA, Yasuyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATO, Ryo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SEKIMOTO, Masahiko; (JP).
KATSUOKA, Seiji; (JP).
DAI, Naoki; (JP).
WATANABE, Teruyuki; (JP).
OGAWA, Takahiro; (JP).
SUZUKI, Kenichi; (JP).
KOBAYASHI, Kenichi; (JP).
MOTOSHIMA, Yasuyuki; (JP).
KATO, Ryo; (JP)
Mandataire : WATANABE, Isamu; Gowa Nishi-Shinjuku 4F, 5-8, Nishi-Shinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-431346 25.12.2003 JP
2003-432480 26.12.2003 JP
Titre (EN) SUBSTRATE HOLDING APPARATUS, SUBSTRATE HOLDING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL SUPPORT DE SUBSTRAT, PROCEDE PERMETTANT DE SUPPORTER UN SUBSTRAT, ET APPAREIL DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A substrate holding apparatus can meet the request for a smaller-sized compact apparatus while ensuring a sufficient immersion depth of a substrate in a processing liquid. The substrate holding apparatus includes: a substrate holder (84) for supporting a substrate (W) by bringing a peripheral portion of a surface of the substrate (W) into contact with a first sealing member (92); and a substrate pressing section (85) for lowering relative to the substrate holder (84) so as to press the substrate (W) held by the substrate holder (84) downward, thereby bringing the first sealing member (92) into pressure contact with the substrate (W); wherein the substrate pressing section (85) is provided with a second ring-shaped sealing member (170) which makes pressure contact with an upper surface of a ring-shaped holding section of the substrate holder (84), thereby sealing the peripheral region of the substrate pressing section (85).
(FR)L'invention concerne un appareil support de substrat capable de correspondre aux exigences d'un appareil compact de petites dimensions, tout en garantissant une profondeur d'immersion suffisante d'un substrat dans un liquide de traitement, ledit appareil comprenant : un porte-substrat (84) destiné à supporter un substrat (W) en amenant une portion périphérique d'une surface du substrat (W) en contact avec un premier élément d'étanchéité (92) ; et une section de compression du substrat (85), d'abaissement par rapport au porte-substrat (84), de manière à presser vers le bas le substrat (W) maintenu par le porte-substrat (84), amenant ainsi le premier élément d'étanchéité (92) en contact à pression avec le substrat (W) ; la section de compression du substrat (85) présentant un second élément d'étanchéité de forme annulaire (170) qui assure un contact à pression avec une surface supérieure d'une section support de forme annulaire du porte-susbtrat (84), garantissant ainsi l'étanchéité de la zone périphérique de la section de compression du substrat (85).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)