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1. (WO2005064413) PLAQUE PHOTOPOLYMERE POUVANT ETRE DEVELOPPEE A L'EAU POUR TYPOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064413 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/019115
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 21.12.2004
CIB :
G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
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Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
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Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs
Déposants :
旭化成ケミカルズ株式会社 Asahi Kasei Chemicals Corporation [JP/JP]; 〒1008440 東京都千代田区有楽町一丁目1番2号 Tokyo 1-2, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008440, JP (AllExceptUS)
小野田 尚之 ONODA, Naoyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
高橋 勝弘 TAKAHASHI, Katsuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
小野田 尚之 ONODA, Naoyuki; JP
高橋 勝弘 TAKAHASHI, Katsuhiro; JP
Mandataire :
浅村 皓 ASAMURA, Kiyoshi; 〒1000004 東京都千代田区大手町2丁目2番1号 新大手町ビル331 Tokyo Room 331, New Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004, JP
Données relatives à la priorité :
2003-43322026.12.2003JP
2004-00131806.01.2004JP
Titre (EN) WATER-DEVELOPABLE PHOTOPOLYMER PLATE FOR LETTERPRESS PRINTING
(FR) PLAQUE PHOTOPOLYMERE POUVANT ETRE DEVELOPPEE A L'EAU POUR TYPOGRAPHIE
(JA) 凸版印刷用水現像感光性樹脂版
Abrégé :
(EN) Disclosed is a method for producing a water-developable photopolymer plate for letterpress printing comprising an exposure step, a development step and a post-exposure step wherein the photopolymer plate is brought into contact with a liquid containing a modified silicone compound and/or a fluorine compound during or after the exposure step.
(FR) Cette invention concerne un procédé permettant de produire une plaque photopolymère pouvant être développée à l'eau pour typographie, lequel procédé comprend une étape d'exposition, une étape de développement et une étape de post-exposition. La plaque photopolymère est mise en contact avec un liquide contenant un composé de silicium modifié et/ou un composé de fluor pendant ou après l'étape d'exposition.
(JA)  本発明は、露光工程、現像工程および後露光工程を含む凸版印刷用水現像感光性樹脂版の製造方法であって、露光工程以降に変性シリコーン化合物および/またはフッ素化合物を含有する液と感光性樹脂版を接触させることを含む、上記方法を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
EP1698942US20070160933JP4439473