Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2005064412) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET DISPOSITIF FABRIQUE PAR CE PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064412 N° de la demande internationale : PCT/NL2004/000927
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 31.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven, NL (AllExceptUS)
KROON, Mark [NL/NL]; NL (UsOnly)
VAN BEEK, Michael, Cornelis [NL/NL]; NL (UsOnly)
DIRKSEN, Peter [NL/NL]; NL (UsOnly)
KURT, Ralph [DE/NL]; NL (UsOnly)
OWEN, Cassandra, May [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
KROON, Mark; NL
VAN BEEK, Michael, Cornelis; NL
DIRKSEN, Peter; NL
KURT, Ralph; NL
OWEN, Cassandra, May; US
Mandataire :
WINCKELS, J., H., F.; Johan de Wittlaan 7 NL-2517 JR Den Haag, NL
Données relatives à la priorité :
10/748,75131.12.2003US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET DISPOSITIF FABRIQUE PAR CE PROCEDE
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes a radiation system that provides a beam of radiation, and a support structure that supports a patterning structure. The patterning structure is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The apparatus also includes a substrate support that supports a substrate, and a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of the substrate. The projection system includes an optical element that has a beam entry area (60) and an optical element that has a beam exit area (80) through each of which the patterned beam passes. The apparatus further includes a nucleated surface (40) that is associated with the projection system on which a plurality of nucleation sites are provided. The surface (40) is disposed away from at least one of the beam entry area (60) and the beam exit area (80).
(FR) Cette invention se rapporte à un appareil lithographique, qui comprend un système rayonnant qui fournit un faisceau de rayonnement, et une structure de support qui soutient une structure de configuration. La structure de configuration est conçue pour configurer le faisceau de rayonnement en fonction d'une configuration souhaitée. Cet appareil comprend également un support de substrat qui soutient un substrat, et un système de projection qui projette le faisceau configuré sur une partie cible du substrat. Le système de projection comporte un élément optique présentant une zone d'entrée de faisceau et un élément optique présentant une zone de sortie de faisceau, à travers chacune desquelles passe le faisceau configuré. Cet appareil comprend en outre une surface nucléée qui est associée au système de projection et sur laquelle sont placés plusieurs sites de nucléation. Cette surface est disposée à distance de la zone d'entrée de faisceau et/ou de la zone de sortie de faisceau.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020060103278EP1709489JP2007517397US20050140956CN1902551