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1. (WO2005064410) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCEDE ET PLAQUE D'ETALONNAGE, DISPOSITIF ET PROCEDE DE FABRICATION ET DISPOSITIF OBTENU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/064410    N° de la demande internationale :    PCT/NL2004/000920
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 28.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501, NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
LEVASIER, Leon, Martin [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BRUINSMA, Anastacius, Jacobus, Anicetus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KLINKHAMER, Jacob, Frederik, Friso [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
NIJMEIJER, Gerrit, Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
DEKKERS-ROG, Petra, Albertina, Margaretha [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : LEVASIER, Leon, Martin; (NL).
BRUINSMA, Anastacius, Jacobus, Anicetus; (NL).
KLINKHAMER, Jacob, Frederik, Friso; (NL).
NIJMEIJER, Gerrit, Johannes; (NL).
DEKKERS-ROG, Petra, Albertina, Margaretha; (NL)
Mandataire : VAN WESTENBRUGGE, Andries; Nederlandsch Octrooibureau, Scheveningseweg 82, P.O. Box 29720, NL-2502 LS The Hague (NL)
Données relatives à la priorité :
10/746,141 29.12.2003 US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF CALIBRATION
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCEDE ET PLAQUE D'ETALONNAGE, DISPOSITIF ET PROCEDE DE FABRICATION ET DISPOSITIF OBTENU
Abrégé : front page image
(EN)A method according to one embodiment of the invention may be performed using a calibration plate (38) having at least one alignment marker (40) and at least one height profile (46). First, the calibration plate is positioned using an alignment sensor. Then the height profile is measured by a height sensor. Then the calibration plate is rotated by substantially 180 degrees and the two operations are repeated. This procedure results in two measured height profiles, which are compared in order to find a best fit. The amount of shift performed to find the best fit is used to determine a distance between the alignment marker and the X,Y position of the measurement point of the height sensor.
(FR)Le procédé de cette invention peut être effectué é l'aide d'une plaque d'étalonnage possédant au moins un marqueur d'alignement et au moins un profil vertical. La plaque d'étalonnage est d'abord positionnée au moyen d'un capteur d'alignement, puis le profil vertical est mesuré par un capteur. La plaque d'étalonnage tourne ensuite sur sensiblement 180 degrés, et les deux opérations sont répétées. Cette procédure permet d'obtenir deux mesures de profils verticaux qui sont comparées de façon à prendre la meilleure mesure. La valeur de décalage est utilisée pour déterminer une distance entre le marqueur d'alignement et la position X, Y du point de mesure du capteur de profil vertical.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)