Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2005064407) DISPOSITIF DE PROJECTION LITHOGRAPHIQUE, PROCEDE ET SUBSTRAT DESTINES A LA FABRICATION DE DISPOSITIFS ELECTRONIQUES ET DISPOSITIF ELECTRONIQUE AINSI OBTENU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064407 N° de la demande internationale : PCT/IB2004/052690
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 07.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1 NL-5621 BA Eindhoven, NL (AllExceptUS)
INTERUNIVERSITAIR MICROELEKTRONICA CENTRUM VZW [BE/BE]; Kapeldreef 75 B-3001 Leuven, BE (AllExceptUS)
DIRKSEN, Peter [NL/NL]; NL (UsOnly)
Inventeurs :
DIRKSEN, Peter; NL
Mandataire :
ELEVELD, Koop, J.; Prof. Holstlaan 6 NL-5656 AA Eindhoven, NL
Données relatives à la priorité :
03104868.922.12.2003EP
Titre (EN) LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE PROJECTION LITHOGRAPHIQUE, PROCEDE ET SUBSTRAT DESTINES A LA FABRICATION DE DISPOSITIFS ELECTRONIQUES ET DISPOSITIF ELECTRONIQUE AINSI OBTENU
Abrégé :
(EN) The invention proposes a lithographic projection device such as a wafer stepper for forming a pattern on a substrate or wafer, comprising a(n) (actinic) radiation or light source (2), illumination optics (4) for directing light issuing from said light source onto a mask (6) and projection optics (8) for directing diffracted radiation or light from said mask to the substrate/wafer to be imaged, wherein an optical filter (9) is provided downstream of said projection optics and an imageable substrate (7) having an optical filter (9) on the side to be imaged.
(FR) L'invention se rapporte à un dispositif de projection lithographique, tel qu'une aligneuse de masque à répétition de projection, permettant de réaliser un motif sur un substrat ou une tranche et comportant une source lumineuse ou de rayonnement (actinique) (2), un système optique d'éclairage (4) permettant de diriger la lumière provenant de ladite source lumineuse vers un masque (6) et un système optique de projection (8) permettant de diriger la lumière ou le rayonnement diffracté provenant dudit masque vers le substrat/la tranche à exposer à une image, un filtre optique (9) étant prévu en aval du système optique de projection. L'invention concerne également un substrat (7) sur lequel une image peut être formée, présentant un filtre optique (9) du côté destiné à être exposé à l'image.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020060128893EP1700168JP2007515803US20070103658