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1. (WO2005064405) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE, ET PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064405 N° de la demande internationale : PCT/EP2004/014282
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 15.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven, NL (AllExceptUS)
VAN SANTEN, Helmar [NL/NL]; NL (UsOnly)
KOLESNYCHENKO, Aleksey, Yurievich [UA/NL]; NL (UsOnly)
Inventeurs :
VAN SANTEN, Helmar; NL
KOLESNYCHENKO, Aleksey, Yurievich; NL
Mandataire :
LEEMING, John, Gerard ; J.A. Kemp & Co. 14 South Square Gray's Inn London WC1R 5JJ, GB
Données relatives à la priorité :
10/743,27123.12.2003US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE LITHOGRAPHIE, ET PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
Abrégé :
(EN) A liquid supply system for an immersion lithographic projection apparatus is disclosed in which a space is defined between the projection system (PL), a barrier member (10) and a substrate. The barrier member (10) is not sealed such that, during use, immersion liquid (5) is allowed to flow out the space and between the barrier member (10) and the substrate (W).
(FR) L'invention concerne un système d'alimentation en liquide pour un appareil de projection lithographique à immersion, dans lequel un espace est défini entre le système de projection, un élément barrière et un substrat. L'élément barrière n'est pas fermé hermétiquement de manière que, lors de l'utilisation, le liquide d'immersion puisse circuler hors de l'espace, et entre l'élément barrière et le substrat.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020060103271EP2259139EP1697799JP2007515798JP4157146CN1898606
EP3287848