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1. (WO2005064402) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE NEGATIVE ET PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE NEGATIVE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064402 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/019112
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 21.12.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 15.07.2005
CIB :
G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/029 (2006.01) ,G03F 7/033 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
028
avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs
029
Composés inorganiques; Composés d'onium; Composés organiques contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène, l'azote ou le soufre
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
027
Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques
032
avec des liants
033
les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p.ex. polymères vinyliques
Déposants :
コダックポリクロームグラフィックス株式会社 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. [JP/JP]; 〒1010062 東京都千代田区神田駿河台二丁目九番 Tokyo 9, Kanda-surugadai 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP (AllExceptUS)
林 浩司 HAYASHI, Koji [JP/JP]; JP (UsOnly)
櫻井 榮男 SAKURAI, Hideo [JP/JP]; JP (UsOnly)
早川 英次 HAYAKAWA, Eiji [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
林 浩司 HAYASHI, Koji; JP
櫻井 榮男 SAKURAI, Hideo; JP
早川 英次 HAYAKAWA, Eiji; JP
Mandataire :
AOKI, Atsushi; A. AOKI, ISHIDA & ASSOCIATES Toranomon 37 Mori Bldg. 5-1, Toranomon 3-chome Minato-ku, Tokyo 1058423, JP
Données relatives à la priorité :
2003-43147825.12.2003JP
Titre (EN) NEGATIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND NEGATIVE PHOTOSENSITIVE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE NEGATIVE ET PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE PHOTOSENSIBLE NEGATIVE
(JA) ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版
Abrégé :
(EN) A negative photosensitive composition which comprises (A) an infrared ray absorber, (B) an organic boron compound exhibiting the function as a polymerization initiator by the combination with the infrared ray absorber (A), (C) an onium salt, and (D) a compound having a polymerizable unsaturated group. The use of the above negative photosensitive composition allows the preparation of a negative photosensitive composition which can be cured by an infrared ray, is less susceptible to the inhibition of polymerization due to oxygen in the radical polymerization thereof, and is excellent in storage stability, and also allows the production of a negative photosensitive lithographic printing plate which can directly form an image without preheating by the irradiation of an infrared ray from a solid laser or a semiconductor laser based on a digital signal, exhibits high sensitivity and is excellent in the resistance to printing and in storage stability.
(FR) La présente invention concerne une composition photosensible négative comprenant (A) un absorbeur de rayonnement infrarouge, (B) un composé de bore organique servant de déclencheur de polymérisation lorsqu'il est combiné avec l'absorbeur de rayonnement infrarouge (A), (C) un sel onium, et (D) un composé contenant un groupe insaturé polymérisable. L'utilisation de cette composition photosensible négative permet de préparer une composition photosensible négative pouvant être durcie par un rayonnement infrarouge, moins sujette au blocage de la polymérisation provoqué par la présence d'oxygène dans la polymérisation radicale de celui-ci, et présentant une excellente stabilité au stockage. L'utilisation d'une telle composition permet également de produire une plaque d'impression lithographique photosensible négative pouvant former, directement, une image sans préchauffage par un rayonnement infrarouge provenant d'un laser solide ou d'un laser à semi-conducteur sur la base d'un signal numérique, laquelle composition présente également une excellente résistance à l'impression et une excellente stabilité au stockage.
(JA)  本発明は(A)赤外線吸収剤と、(B)(A)赤外線吸収剤と併用することで重合開始剤としての機能を発現する有機ホウ素化合物と、(C)オニウム塩と、(D)重合性の不飽和基を有する化合物とを含有するネガ型感光性組成物に関する。  本発明のネガ型感光性組成物を用いて、赤外線によって硬化可能であり、ラジカル重合時に酸素によって重合阻害が起こりにくく、かつ保存安定性に優れるネガ型感光性組成物、および、デジタル信号に基づいて固体レーザーまたは半導体レーザーから赤外線を照射することによりプレヒートなしで直接画像を形成でき、感度が高く、耐刷性、保存安定性に優れるネガ型感光性平版印刷版を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
EP1708023JPWO2005064402US20070148582CN1898604