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1. (WO2005064401) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE AYANT UN SYSTEME DE MITIGATION DE DEBRIS, UNE SOURCE DE PRODUCTION DE RAYONNEMENT UV AYANT UN SYSTEME DE MITIGATION DE DEBRIS ET UN PROCEDE DE MITIGATION DE DEBRIS
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N° de publication : WO/2005/064401 N° de la demande internationale : PCT/NL2004/000928
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 31.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven, NL (AllExceptUS)
BANINE, Vadim, Yevgenyevich [NL/NL]; NL (UsOnly)
BAKKER, Levinus, Pieter [NL/NL]; NL (UsOnly)
MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina [NL/NL]; NL (UsOnly)
IVANOV, Vladimir, Vitalevitch [RU/RU]; RU (UsOnly)
ZUKAVISHVILI, Givi, Georgievitch [RU/RU]; RU (UsOnly)
VEEFKIND, Abraham [NL/NL]; NL (UsOnly)
Inventeurs :
BANINE, Vadim, Yevgenyevich; NL
BAKKER, Levinus, Pieter; NL
MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina; NL
IVANOV, Vladimir, Vitalevitch; RU
ZUKAVISHVILI, Givi, Georgievitch; RU
VEEFKIND, Abraham; NL
Mandataire :
WINCKELS, J.H.F.; Johan de Wittlaan 7 NL-2517 JR Den Haag, NL
Données relatives à la priorité :
10/748,85131.12.2003US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS HAVING A DEBRIS-MITIGATION SYSTEM, A SOURCE FOR PRODUCING EUV RADIATION HAVING A DEBRIS MITIGATION SYSTEM AND A METHOD FOR MITIGATING DEBRIS
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE AYANT UN SYSTEME DE MITIGATION DE DEBRIS, UNE SOURCE DE PRODUCTION DE RAYONNEMENT UV AYANT UN SYSTEME DE MITIGATION DE DEBRIS ET UN PROCEDE DE MITIGATION DE DEBRIS
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes an illumination system that provides a beam of radiation, and a support structure that supports a patterning structure. The patterning structure is configured to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section. The apparatus also includes a substrate support that supports a substrate, a projection system that projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a debris-mitigation system that mitigates debris particles which are formed during use of at least a part of the lithographic apparatus. The debris-mitigation system is arranged to apply a magnetic field so that at least charged debris particles are mitigated.
(FR) Un appareil lithographique comprend un système d'éclairage fournissant un faisceau de rayonnement, et une structure de support supportant une structure de moirage. Cette structure est configurée de manière à conférer au faisceau de rayonnement un modèle dans sa section transversale. L'appareil comporte en outre un support de substrat supportant un substrat, un système de projection projetant le faisceau moiré sur une partie cible du substrat et un système de mitigation de débris mitigant les particules de débris formées pendant l'utilisation d'au moins une partie de l'appareil lithographique. Ce système de mitigation de débris est disposé de manière à appliquer un champ magnétique dans le but de mitiger au moins les particules de débris chargées.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
JP2007522646US20050140945JP4440938