Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2005064400) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064400 N° de la demande internationale : PCT/EP2004/014481
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 20.12.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 02.11.2005
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/00 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H02N 13/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H ÉLECTRICITÉ
02
PRODUCTION, CONVERSION OU DISTRIBUTION DE L'ÉNERGIE ÉLECTRIQUE
N
MACHINES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
13
Embrayages ou dispositifs de maintien utilisant l'attraction électrostatique, p.ex. utilisant l'effet Johnson-Rahbek
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven, NL (AllExceptUS)
SMITS, Peter [NL/NL]; NL (UsOnly)
SMULDERS, Patrick, Johannes, Cornelus, Hendrik [NL/NL]; NL (UsOnly)
ZAAL, Koen, Jacobus, Johannes, Maria [NL/NL]; NL (UsOnly)
COX, Henrikus, Herman, Marie [NL/NL]; NL (UsOnly)
OTTENS, Joost, Jeroen [NL/NL]; NL (UsOnly)
GILISSEN, Noud, Jan [NL/NL]; NL (UsOnly)
STARREVELD, Jeroen [NL/NL]; NL (UsOnly)
Inventeurs :
SMITS, Peter; NL
SMULDERS, Patrick, Johannes, Cornelus, Hendrik; NL
ZAAL, Koen, Jacobus, Johannes, Maria; NL
COX, Henrikus, Herman, Marie; NL
OTTENS, Joost, Jeroen; NL
GILISSEN, Noud, Jan; NL
STARREVELD, Jeroen; NL
Mandataire :
LEEMING, John, Gerard; J.A. KEMP & CO. 14 South Square Gray's Inn London WC1R 5JJ, GB
Données relatives à la priorité :
10/744,08824.12.2003US
Titre (EN) CHUCK SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS USING THE SAME AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIFS
Abrégé :
(EN) A lithographic apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation and a support structure for supporting a patterning device. The patterning device serves to impart the beam with a pattern in its cross-section. The lithographic apparatus includes a substrate table for holding a substrate and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate. The apparatus has a chuck system (100) for supporting an object, such as the substrate or the patterning device, in the lithographic apparatus. The chuck system includes a chuck (120) for supporting the object, a frame (110) for supporting the chuck, and a chuck support structure (114) for supporting the chuck relative to the frame. The chuck support structure includes at least one flexure element (130), which flexure element is flexible in at least one degree of freedom and is coupled to the chuck and the frame.
(FR) L'invention porte sur un appareil lithographique comprenant un système d'éclairage afin de fournir un faisceau de rayons et une structure de support afin de soutenir un dispositif de modélisation. Ce dispositif de modélisation permet de donner au faisceau un motif dans sa section transversale. Cet appareil lithographique comprend une table de substrat afin de soutenir un substrat et un système de projection afin de projeter le faisceau à motifs sur une partie cible du substrat. Cet appareil possède un système de mandrin afin de soutenir un objet, tel le substrat ou le dispositif de modélisation, dans l'appareil lithographique. Ce système de mandrin comprend un mandrin afin de soutenir l'objet, un cadre pour soutenir le mandrin, et une structure de support de mandrin afin de soutenir la mandrin par rapport au cadre. Cette structure de support de mandrin comprend au moins un élément de flexion, cet élément de flexion pouvant fléchir librement selon au moins un degré et étant relié au mandrin et au cadre.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020060103269KR1020080032015KR1020080091268EP1702241JP2007515799JP4384181
CN1898611