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1. (WO2005064382) APPAREIL DESTINE A SUPPORTER UN ELEMENT OPTIQUE, CYLINDRE, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064382 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/019265
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 22.12.2004
CIB :
G02B 7/02 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
7
Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
02
pour lentilles
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
Déposants :
株式会社 ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
柴崎 祐一 SHIBAZAKI, Yuichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
柴崎 祐一 SHIBAZAKI, Yuichi; JP
Mandataire :
恩田 博宣 ONDA, Hironori; 〒5008731 岐阜県岐阜市大宮町2丁目12番地の1 Gifu 12-1, Ohmiya-cho 2-chome Gifu-shi, Gifu 5008731, JP
Données relatives à la priorité :
2003-43148425.12.2003JP
Titre (EN) APPARATUS FOR HOLDING OPTICAL ELEMENT, BARREL, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) APPAREIL DESTINE A SUPPORTER UN ELEMENT OPTIQUE, CYLINDRE, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 光学素子の保持装置、鏡筒、露光装置、及びデバイスの製造方法
Abrégé :
(EN) A holding apparatus (38) for holding an optical element (37) at a controlled position and attitude. The optical element (37) is held at an inner ring (43) by a piezo housing (54). A piezo element (65) is isolated from the optical element (37). When the piezo element (65) elongates and contracts, a displacement section (70) is displaced in a plane perpendicular to the optical axis of the optical element while being guided by a parallel link section (71). A transmission link section (72) converts the direction of the displacement of the optical element (37) to transmit the result to a part of the inner ring (43).
(FR) L'invention concerne un appareil de support (38) destiné à supporter un élément optique (37) dans une position et une orientation régulées. L'élément optique (37) est supporté au niveau d'un anneau intérieur (43) par un boîtier piézoélectrique (54). Lorsque l'élément piézoélectrique (65) s'allonge et se contracte, une section de déplacement (70) est déplacée dans un plan perpendiculaire à l'axe optique de l'élément optique tout en étant guidée par une section de liaison parallèle (71). Une section de liaison de transmission (72) convertit le sens du déplacement de l'élément optique (37) de manière à transmettre le résultat à une pièce de l'anneau intérieur (43).
(JA) 光学素子(37)を制御された位置と姿勢で保持する保持装置(38)。光学素子(37)はインナリング(43)に保持される。ピエゾハウジング(54)によって、ピエゾ素子(65)は光学素子(37)から隔離されている。ピエゾ素子(65)が伸縮したとき、変位部(70)は平行リンク部(71)に案内されて、光学素子(37)の光軸に垂直な面内で変位する。伝達リンク部(72)は光学素子(37)の変位の方向を変換して、インナリング(43)の一部に伝達する。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
JPWO2005064382US20070183064JP4654915