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1. (WO2005064322) DISPOSITIF ET PROCEDE D'INSPECTION DES DEFAUTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/064322 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/019370
Date de publication : 14.07.2005 Date de dépôt international : 24.12.2004
CIB :
G01N 21/956 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956
Inspection de motifs sur la surface d'objets
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒1008331 東京都千代田区丸の内三丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-Chome Chiyoda-ku, Tokyo 1008331, JP (AllExceptUS)
深澤 和彦 FUKAZAWA, Kazuhiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
大森 健雄 OOMORI, Takeo [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
深澤 和彦 FUKAZAWA, Kazuhiko; JP
大森 健雄 OOMORI, Takeo; JP
Mandataire :
古谷 史旺 FURUYA, Fumio; 〒1600023 東京都新宿区西新宿1丁目19番5号 第2明宝ビル9階 Tokyo Dai2 Meiho Bldg. 9th Floor 19-5, Nishishinjuku 1-Chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
Données relatives à la priorité :
2003-43467526.12.2003JP
Titre (EN) DEFECT INSPECTION DEVICE AND DEFECT INSPECTION METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE D'INSPECTION DES DEFAUTS
(JA) 欠陥検査装置および欠陥検査方法
Abrégé :
(EN) A defect inspection device able to positively reduce a noise light from a base layer and carry out a good defect inspection; and a defect inspection method. The device comprises a lighting device (13) for applying a lighting light to a substrate (11) under inspection having a resist layer formed at the upper layer thereof with cyclic patterns, and an imaging optical system (14) for forming the image of the substrate under inspection based on a light emitted from the substrate by the irradiation of the lighting light. The wavelength of the lighting light is set so that the intensity of a light from the surface of the resist layer, out of lights emitted from the substrate, is larger than that of a light gone through the surface of a cyclic pattern layer formed below the resist layer.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'inspection des défauts qui peut réduire efficacement une lumière de bruit émanant d'une couche de base et effectuer une bonne inspection des défauts, ainsi qu'un procédé d'inspection des défauts. Le dispositif comprend un dispositif d'éclairage (13) qui applique une lumière d'éclairage sur un substrat (11) soumis à l'inspection qui comporte une couche de réserve formée sur sa couche supérieure avec des motifs cycliques et un système optique d'imagerie (14) qui forme l'image du substrat soumis à l'inspection sur la base d'une lumière émise par le substrat du fait de l'irradiation de la lumière d'éclairage. La longueur d'onde de la lumière d'éclairage est réglée de sorte que l'intensité d'une lumière partant de la surface de la couche de réserve soit plus importante que celle d'une lumière ayant traversé la surface d'une couche à motifs cycliques formée sous la couche de réserve.
(JA)  本発明は、下地層からのノイズ光を確実に減らすことができ、良好な欠陥検査を行える欠陥検査装置および欠陥検査方法の提供を目的とする。そのため、上層に周期パターンが形成されたレジスト層を有する被検基板11に対して、照明光を照射する照明装置13と、照明光の照射により被検基板から発生した光に基づいて、被検基板の像を形成する結像光学系14とを備える。そして、照明光の波長は、被検基板から発生した光のうち、レジスト層の表面からの光の強度が、レジスト層の下方に形成された周期パターン層の表面を経た光の強度より大きくなるように設定される。                                                                             
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
KR1020060132665JPWO2005064322US20060238754US20080316475