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1. (WO2005062351) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/062351 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/018958
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 13.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP (AllExceptUS)
HONDA, Tokuyuki [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
HONDA, Tokuyuki; JP
Mandataire :
FUJIMOTO, Ryosuke; Fujimoto Patent Office Yaesu Nagoya Building 6th Floor 2-10, Yaesu 2-chome Chuo-ku, Tokyo 1040028, JP
Données relatives à la priorité :
2003-42293219.12.2003JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
Abrégé :
(EN) An exposure apparatus includes a projection optical system (3) for projecting a pattern of a mask (2) onto a substrate (5), and a fluid supply unit (6) for supplying a fluid between said projection optical system and the substrate, said fluid supply unit (6) including an injection unit (19) for injecting carbon dioxide into the fluid.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition comprenant un système optique de projection (3) permettant de projeter un motif de masque (2) sur un substrat (5), et une unité d'alimentation fluidique (6) permettant de fournir un fluide entre le système optique de projection et le substrat, ladite unité d'alimentation fluidique (6) comprenant une unité d'injection (19) permettant d'injecter un dioxyde de carbone dans ledit fluide.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020060101529EP1697974US20060050257