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1. (WO2005062339) CARACTERISATION DE METROLOGIE R.F. POUR INSTALLATION SUR PLACE ET FACILITE DE MAINTENANCE DE SYSTEMES DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/062339    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/023392
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 20.07.2004
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : MKS INSTRUMENTS, INC. [US/US]; 6 Shattuck Road, Andover, MA 01810 (US) (Tous Sauf US).
COUMOU, David [US/US]; (US) (US Seulement).
WEATHERELL, Clifford [US/US]; (US) (US Seulement).
KIRK, Michael [US/US]; (US) (US Seulement).
NASMAN, Kevin [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : COUMOU, David; (US).
WEATHERELL, Clifford; (US).
KIRK, Michael; (US).
NASMAN, Kevin; (US)
Mandataire : LAFATA, Joseph, M.; P.O. box 828, Bloomfield Hills, MI 48303 (US)
Données relatives à la priorité :
10/727,081 02.12.2003 US
Titre (EN) RF METROLOGY CHARACTERIZATION FOR FIELD INSTALLATION AND SERVICEABILITY OF PLASMA PROCESSING SYSTEMS
(FR) CARACTERISATION DE METROLOGIE R.F. POUR INSTALLATION SUR PLACE ET FACILITE DE MAINTENANCE DE SYSTEMES DE TRAITEMENT AU PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A system for field substitution of components of a RF metrology system. The system includes a sensor/cable combination and an analysis unit. Parameters of the RF metrology system are determined prior to placing the RF metrology system in the field. From these parameters, either component, the cable/sensor combination or the analysis module, may be substituted in the field by recalibrating the system for the substituted unit. Such recalibration is carried out utilizing the parameters determined prior to placing the RF metrology system in the field.
(FR)L'invention concerne un système de substitution de composants de système de métrologie R.F. Ledit système comprend une combinaison de capteur/câble et une unité d'analyse. Des paramètres du système de métrologie R.F. sont déterminés avant de placer ledit système de métrologie R.F. sur place. A partir de ces paramètres, soit un composant, soit la combinaison de capteur/câble ou soit le module d'analyse, peuvent être remplacés sur place par réétalonnage du système pour l'unité substituée. Ce réétalonnage est exécuté par utilisation des paramètres déterminés avant le placement du système de métrologie R.F. sur place.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)