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1. (WO2005062128) PROCEDE LITHOGRAPHIQUE A IMMERSION METTANT EN OEUVRE UN MILIEU D'IMMERSION CONFORME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/062128 N° de la demande internationale : PCT/US2004/035419
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 26.10.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place Mail Stop 68 P.O.Box 3453 Sunnyvale, CA 94088-3453, US (AllExceptUS)
LYONS, Christopher, F. [US/US]; US (UsOnly)
BABCOCK, Carl, P. [US/US]; US (UsOnly)
KYE, Jongwook [KR/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
LYONS, Christopher, F.; US
BABCOCK, Carl, P.; US
KYE, Jongwook; US
Mandataire :
DRAKE, Paul, S.; One AMD Place Mail Stop 68 P.O. Box 3453 Sunnyvale, CA 94088-3453, US
Données relatives à la priorité :
10/726,41303.12.2003US
Titre (EN) IMMERSION LITHOGRAPHIC PROCESS USING A CONFORMING IMMERSION MEDIUM
(FR) PROCEDE LITHOGRAPHIQUE A IMMERSION METTANT EN OEUVRE UN MILIEU D'IMMERSION CONFORME
Abrégé :
(EN) A method of making a device using a lithographic system (10) having a lens (32) from which an exposure pattern (24) is emitted. A conforming immersion medium (26) can be positioned between a photo resist layer (34) and the lens. The photo resist layer, which can be disposed over a wafer, and the lens can be brought into intimate contact with the conforming medium. The photo resist can then be exposed with the exposure pattern so that the exposure pattern traverses the conforming immersion medium.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif mettant en oeuvre un système lithographique (10) possédant une lentille (32) à partir de laquelle un motif d'exposition (24) est émis. Un milieu d'immersion conforme (26) peut être placé entre une couche photosensible (34) et la lentille. Cette couche photosensible, qui peut être placée sur une plaquette, et la lentille peuvent être mises en contact étroit avec le milieu d'immersion conforme. La résine photosensible peut ensuite être exposée au motif d'exposition afin que ce motif d'exposition traverse le milieu d'immersion conforme.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
KR1020060123265JP2007513518CN1886698