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1. (WO2005062127) PROCEDE D'ASSEMBLAGE D'AU MOINS UN PREMIER ELEMENT ET D'UN SECOND ELEMENT, MACHINE LITHOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ET DISPOSITIF AINSI OBTENU
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N° de publication : WO/2005/062127 N° de la demande internationale : PCT/NL2004/000898
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 22.12.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven, NL (AllExceptUS)
VAN ELP, Jan [NL/NL]; NL (UsOnly)
Inventeurs :
VAN ELP, Jan; NL
Mandataire :
WINCKELS, J.H.F.; Johan de Wittlaan 7 NL-2517 JR Den Haag, NL
Données relatives à la priorité :
10/740,83122.12.2003US
Titre (EN) METHOD FOR JOINING AT LEAST TWO MEMBERS
(FR) PROCEDE D'ASSEMBLAGE D'AU MOINS UN PREMIER ELEMENT ET D'UN SECOND ELEMENT, MACHINE LITHOGRAPHIQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ET DISPOSITIF AINSI OBTENU
Abrégé :
(EN) A method for joining at least two members of a lithographic apparatus is disclosed. The method includes providing a first member (1), providing a second member (2), direct-bonding the first member and the second member to form a direct-bond, and anodically bonding the first member and the second member. At least one of the members includes ultra low expansion glass and/or ultra low expansion glass ceramics.
(FR) L'invention concerne un procédé d'assemblage d'au moins deux éléments lithographiques. Ce procédé consiste à: fournir d'abord un premier élément, fournir ensuite un second élément, soumettre le premier élément et le second élément à une opération de liaison directe pour former une liaison directe, et enfin, soumettre le premier élément et le second élément à une liaison anodique. Au moins un de ces éléments contient du verre à très faible coefficient de dilatation et/ou des vitrocéramiques à très faible coefficient de dilatation.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)
Également publié sous:
EP1697800JP2007523030JP4444971