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1. (WO2005062091) PROCEDE DE PRODUCTION DE CRISTAUX PHOTONIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/062091    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/038644
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 18.11.2004
CIB :
G02B 6/122 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Inventeurs : ANDERSON, Mark, T.; (US).
LEATHERDALE, Catherine, A.; (US).
THOMPSON, Scott, D.; (US)
Mandataire : WEISS, Lucy, C.; Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
10/728,490 05.12.2003 US
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING PHOTONIC CRYSTALS BY IRRADIATION OF A PHOTOREACTIVE MATERIAL
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE CRISTAUX PHOTONIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing photonic crystals comprises (a) providing a photoreactive composition; (b) exposing, using a multibeam interference technique involving at least three beams, at least a portion of the photoreactive composition to radiation of appropriate wavelength, spatial distribution, and intensity to produce a two-dimensional or three-dimensional periodic pattern of reacted and non-reacted portions of the photoreactive composition; and (c) removing the non-reacted portion or the reacted portion of the photoreactive composition to form interstitial void space.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de cristaux photoniques consistant (a) à utiliser une composition photoréactive sensiblement inorganique, (b) à exposer, au moyen d'une technique d'interférence multifaisceau faisant intervenir au moins trois faisceaux, une partie au moins de la composition photoréactive à un rayonnement de longueur d'onde, de distribution spatiale et d'intensité appropriées en vue de la production d'un motif périodique bidimensionnel ou tridimensionnel d'une partie ayant réagi et d'une partie n'ayant pas réagi de la composition photoréactive, et (c) à enlever la partie n'ayant pas réagi ou la partie ayant réagi de la composition photoréactive de manière à former un espace vide interstitiel.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)