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1. (WO2005062028) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/062028 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/018947
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 17.12.2004
CIB :
G01N 21/956 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956
Inspection de motifs sur la surface d'objets
Déposants :
株式会社 メガトレード MEGA TRADE CORP. [JP/JP]; 〒6018116 京都府京都市南区上鳥羽鉾立町11番地の2 Kyoto 11-2, Hokotate-cho, Kamitoba, Minami-ku, Kyoto-city, Kyoto 6018116, JP (AllExceptUS)
笹井 昌年 SASAI, Masatoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs :
笹井 昌年 SASAI, Masatoshi; JP
Mandataire :
久留 徹 KURU, Toru; 〒6170837 京都府長岡京市久貝3丁目1−14 Aー201−5 Kyoto 550-2, Honeyano-cho Rokkaku-sagaru Tominokoji-dori Nakagyo-ku, Kyoto-shi Kyoto 604-8064, JP
Données relatives à la priorité :
2003-42549722.12.2003JP
Titre (EN) SUBSTRATE INSPECTION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'INSPECTION DE SUBSTRAT
(JA) 基板検査装置
Abrégé :
(EN) A substrate inspection device (1) inspects a formation state of a pattern area (20) formed on a printed circuit board (2). The substrate inspection device (1) includes: inside area data generation means (7) for generating inspection data in an inside area (21c) of the pattern area (20) to be inspected; outside area data generation means (10) for generating inspection data in an outside ring-shaped area (22b); and inside and outside judgment means (9, 11) for comparing the inside area data and outside area data generated to predetermined reference data so as to judge whether the pattern area is preferable. Thus, defect detection can be appropriately performed by applying a gentle reference to the inside of the pattern area (20) where comparatively large defects can be allowed while applying a strict reference to the outside of the pattern area (20) where even small defects cause problems.
(FR) L'invention porte sur un dispositif d'inspection de substrat (1) qui permet d'inspecter l'état de formation d'une zone de motifs (20) formée sur une carte à circuit imprimé (2). Le dispositif d'inspection de substrat de l'invention (1) comprend : des moyens permettant de produire des données de zone interne (7) qui produisent des données d'inspection relatives à une zone interne (21c) de la zone de motifs (20) à inspecter ; des moyens permettant de produire des données de zone externe (10) qui produisent des données d'inspection relatives à une zone annulaire externe (22b) ; et des moyens de détermination interne et externe (9, 11) qui comparent les données de zone interne et les données de zone externe produites à des données de référence prédéterminées, de manière à déterminer si la zone de motifs est constituée de la manière préférable. L'invention permet de la sorte d'effectuer une détection appropriée des défauts, en appliquant des références lâches à l'intérieur de la zone de motifs (20) où l'on peut laisser passer des défauts comparativement grands, tout en appliquant des références strictes à l'extérieur de la zone de motifs (20) où même de petits défauts peuvent être source de problèmes.
(JA) プリント基板1上に形成されたパターン領域20の形成状態を検査する基板検査装置1において、検査対象となるパターン領域20の内側領域21cの検査データを生成する内側領域データ生成手段7と、外側のリング状領域22bにおける検査データを生成する外側領域データ生成手段10と、この生成された内側領域データ・外側領域データとあらかじめ設定された基準データとを比較してパターン領域の良否を判定する内側・外側判定手段9、11とを設けるようにしたので、比較的大きな欠陥が許容されるパターン領域20の内側について緩やかな基準を適用し、また、微細な欠陥も問題とされるパターン領域20の外側について厳しい基準を適用することにより、欠陥検出を適切に行う。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Japonais (JA)
Langue de dépôt : Japonais (JA)
Également publié sous:
KR1020060130109KR1020080011235JP2005181218US20070147676CN1898555