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1. (WO2005061754) PROCEDE ET APPAREIL POUR PRODUIRE UNE COUCHE FONCTIONNELLE CONSTITUEE D'AU MOINS DEUX COMPOSANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/061754    N° de la demande internationale :    PCT/NL2004/000876
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 16.12.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.10.2005    
CIB :
C23C 14/56 (2006.01), C23C 16/513 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01)
Déposants : OTB GROUP B.V. [NL/NL]; Luchthavenweg 10, NL-5657 EB Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
BIJKER, Martin, Dinant [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
EVERS, Marinus, Franciscus, Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
DINGS, Franciscus, Cornelius [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BIJKER, Martin, Dinant; (NL).
EVERS, Marinus, Franciscus, Johannes; (NL).
DINGS, Franciscus, Cornelius; (NL)
Mandataire : WINCKELS, J.H.F.; Johan de Wittlaan 7, NL-2517 JR Den Haag (NL)
Données relatives à la priorité :
1025094 21.12.2003 NL
1025096 22.12.2003 NL
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING A FUNCTIONAL LAYER CONSISTING OF AT LEAST TWO COMPONENTS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR PRODUIRE UNE COUCHE FONCTIONNELLE CONSTITUEE D'AU MOINS DEUX COMPOSANTS
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing a functional layer, wherein a substrate is introduced into a process chamber, wherein at least one plasma is generated by at least one plasma source, such as for instance a plasma cascade source (3), wherein at least one deposition material is deposited on the substrate (1) under the influence of the plasma (p), wherein, at the same time, at least one second material (6) is applied to the substrate with the aid of a second deposition process. The invention further provides an apparatus which is provided with at least one plasma source, such as for instance a plasma cascade source, to generate at least one plasma, wherein the apparatus comprises means for introducing deposition material into each plasma, wherein the apparatus is provided with a second deposition source (6), which second deposition source is arranged to deposit at least one second deposition material on the substrate at the same time as the plasma source.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour produire une couche fonctionnelle qui consiste à introduire un substrat dans une chambre de traitement, dans laquelle au moins un plasma est produit par au moins une source de plasma, comme par exemple une source de cascade de plasma (3), à déposer au moins une matière de dépôt sur le substrat (1), sous l'influence du plasma (p) et à appliquer simultanément au moins une seconde matière (6) sur le substrat à l'aide d'un second processus de dépôt. La présente invention concerne également un appareil qui comprend au moins une source de plasma, comme par exemple une source de cascade de plasma, conçue pour produire au moins un plasma, des systèmes conçus pour introduire une matière de dépôt dans chaque plasma, ainsi qu'une seconde source de dépôt (6) conçue pour déposer au moins une seconde matière de dépôt sur le substrat au même moment que la source de plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : néerlandais; flamand (NL)