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1. (WO2005061378) MATERIEL ET PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UNE GRAVURE INCLINEE PERSONNALISEE DANS UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2005/061378 N° de la demande internationale : PCT/US2004/041864
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 14.12.2004
CIB :
B01D 46/10 (2006.01) ,B01D 46/52 (2006.01) ,B81C 1/00 (2006.01) ,H01L 21/768 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
46
Filtres ou procédés spécialement modifiés pour la séparation de particules dispersées dans des gaz ou des vapeurs
10
Séparateurs de particules utilisant des plaques, feuilles ou tampons filtrants possédant des surfaces planes, p.ex. appareils de précipitation de poussières
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01
PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
D
SÉPARATION
46
Filtres ou procédés spécialement modifiés pour la séparation de particules dispersées dans des gaz ou des vapeurs
52
Séparateurs de particules utilisant des filtres comportant un matériau plié, p.ex. appareils de précipitation de poussières
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
81
TECHNOLOGIE DES MICROSTRUCTURES
C
PROCÉDÉS OU APPAREILS SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À LA FABRICATION OU AU TRAITEMENT DE DISPOSITIFS OU DE SYSTÈMES À MICROSTRUCTURE
1
Fabrication ou traitement de dispositifs ou de systèmes dans ou sur un substrat
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70
Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
71
Fabrication de parties spécifiques de dispositifs définis en H01L21/7089
768
Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
Déposants :
HONEYWELL INTERNATIONAL INC. [US/US]; 101 Columbia Road P.O. Box 2245 Morristown, NJ 07960, US
YOUNGNER, Dan, W. [US/US]; US (UsOnly)
STARZYNSKI, John, S. [US/US]; US (UsOnly)
DETRY, James, F. [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs :
YOUNGNER, Dan, W.; US
STARZYNSKI, John, S.; US
DETRY, James, F.; US
Mandataire :
HOIRIIS, David ; Honeywell International Inc. 101 Columbia Road P.O. Box 2245 Morristown, NJ 07960, US
Données relatives à la priorité :
10/739,31418.12.2003US
Titre (EN) EQUIPMENT AND PROCESS FOR CREATING A CUSTOM SLOPED ETCH IN A SUBSTRATE
(FR) MATERIEL ET PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UNE GRAVURE INCLINEE PERSONNALISEE DANS UN SUBSTRAT
Abrégé :
(EN) Equipment and processes for creating a custom sloped etch in a substrate are disclosed. An illustrative process may include the steps of providing a substrate having a surface to be etched, providing a control layer on the surface of the substrate, forming a mask above the control layer, and then selectively etching each of the control layer and substrate at variable rates to form a sloped etch in the substrate.
(FR) La présente invention se rapporte à du matériel et à des procédés permettant de générer une gravure inclinée personnalisée dans un substrat. Un procédé exemplaire peut comprendre les étapes consistant à fournir un substrat possédant une surface destinée à être gravée, à fournir une couche de contrôle sur la surface dudit substrat, à former un masque par-dessus la couche de contrôle, puis à graver sélectivement la couche de contrôle et le substrat à des vitesses variables, afin de former une gravure inclinée dans le substrat.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : Anglais (EN)
Langue de dépôt : Anglais (EN)