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1. (WO2005061372) PROCEDE DE REALISATION D'UNE STRUCTURE COMPORTANT AU MOINS UN EVIDEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/061372    N° de la demande internationale :    PCT/FR2004/050708
Date de publication : 07.07.2005 Date de dépôt international : 16.12.2004
CIB :
B01D 67/00 (2006.01), B01D 71/02 (2006.01), B01J 19/00 (2006.01), B01L 3/00 (2006.01), B81B 1/00 (2006.01), B81C 1/00 (2006.01), G01N 27/447 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31-33 rue de la Fédération, F-75752 PARIS 15ème (FR) (Tous Sauf US).
MOLLARD, Laurent [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
LANDIS, Stéfan [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : MOLLARD, Laurent; (FR).
LANDIS, Stéfan; (FR)
Mandataire : LEHU, Jean; Brevatome, 3, rue du Docteur Lancereaux, F-75008 PARIS (FR)
Données relatives à la priorité :
0351140 19.12.2003 FR
Titre (EN) METHOD OF PRODUCING A STRUCTURE COMPRISING AT LEAST ONE VIA
(FR) PROCEDE DE REALISATION D'UNE STRUCTURE COMPORTANT AU MOINS UN EVIDEMENT
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a method of producing a structure comprising at least one buried via. The inventive method comprises the following steps consisting in: depositing a layer of a non-organic material (2) having a first chemical state on a support (1); treating (3) the layer (2) in a localised manner, in order for the treated part of the layer to enter a second chemical state and, consequently, a region (4) corresponding to the via to be produced to be defined in the layer, the material of said region (4) being in either the first or second chemical state and being different from the rest of the layer; removing the non-treated part of the layer (2); encapsulating the treated part (4) in an encapsulation material (5); and removing all or part of the material from the aforementioned region in order to produce the via.
(FR)L'invention concerne un procédé de réalisation d'une structure comportant au moins un évidement enterré. Ce procédé comprend les étapes suivantes : dépôt sur un support (1) d'une couche d'un matériau non organique (2) présentant un premier état chimique ; traitement localisé (3) de ladite couche (2) pour faire passer la partie traitée de ladite couche dans un deuxième état chimique et pour ainsi délimiter dans ladite couche une région (4) correspondant audit évidement à réaliser, le matériau de ladite région (4) étant dans un état chimique choisi entre le premier et le deuxième état chimique et différent du reste de ladite couche ; élimination de la partie non traitée de ladite couche (2) ; encapsulation de la partie traitée (4) dans un matériau d’encapsulation (5) ; élimination de tout ou partie du matériau de ladite région pour obtenir ledit évidement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)